| 聚硅氧烷改性及多模光波导制备 |
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| 作者姓名： | 冯向华 季家镕 窦文华 |
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| 作者单位： | 1.国防科学技术大学光电科学与工程学院,湖南长沙410073;解放军信息工程大学理学院,河南郑州450001;2.国防科学技术大学光电科学与工程学院,湖南长沙,410073;3.国防科学技术大学计算机学院,湖南长沙,410073 |
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| 基金项目： | 国家973计划（2012CB933504）资助课题。 |
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| 摘 要： | 采用含氢聚硅氧烷(HPSO)和二乙烯基苯(DVB)的交联体掺人聚二甲基硅氧烷(PDMS)中,使改性的聚二甲基硅氧烷(M-PDMS)折射率发生1％～1.8％的改变.M-PDMS及PDMS薄膜具有良好的光透射率和低的传输损耗,是低成本制备用于高速芯片间光互连聚合物光波导的理想材料.采用软成型和图案转移法,用M PDMS及PDMS分别作波导的芯层和包层制备了截面为50 μm×50 μm,长度大于20 cm的聚硅氧烷多模光波导.用数字化散射法测量了所制备波导的传输损耗,测得输入光波长为633 nm时平均传输损耗为0.137 dB/cm.
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| 关 键 词： | 薄膜 芯片间光互连 聚硅氧烷波导 交联体 图案转移法 传输损耗 |
| 收稿时间： | 2011-11-21 |
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