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LD泵浦Nd∶LuVO4/Cr4+∶YAG被动调Q激光器
作者姓名:王正平  杜晨林  张怀金  阮双琛  胡大伟  王营  许心光  王继扬  邵宗书
作者单位:1. 山东大学晶体材料国家重点实验室,济南,250100
2. 深圳大学工程技术学院,深圳,518060
基金项目:教育部优秀青年教师资助计划 , 教育部留学回国人员科研启动基金 , 山东省自然科学基金
摘    要:采用大功率半导体激光器端面泵浦Nd∶LuVO4晶体,利用Cr4+∶YAG晶体作为可饱和吸收元件,实现了1.06 μm激光的被动调Q运转.在泵浦功率为19.1 W时,获得最高平均输出功率为4.58 W,脉冲宽度为84 ns,单脉冲能量为36.6 μJ以及峰值功率为436.2 W的激光脉冲.

关 键 词:半导体激光器泵浦  Nd∶LuVO4晶体  Cr4+∶YAG  被动调Q
收稿时间:2005-03-15
修稿时间:2005-03-15
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