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| 聚合物三维微图案加工的转移微模塑新方法 | |
| 作者姓名： | 王哲 邢汝博 韩艳春 李滨耀 |
| 作者单位： | 中国科学院长春应用化学研究所高分子物理与化学国家重点实验室, 130022 |
| 基金项目： | 中国科学院“百人计划”，中国科学院知识创新工程方向性项目(批准号:KGCX2-205-03)，国家杰出青年科学基金(批准号:50125311)，国家自然科学基金(批准号:20023003)，吉林省杰出青年科学基金(批准号:20010101)资助 |
| 摘 要： | 光刻蚀技术是微电子加工技术中最成功的一种,但由于受到光学衍射等的限制,100nm是光刻蚀的极限,为此人们探索了许多先进的刻蚀技术,如超紫外线刻蚀(EUV)、软X射线刻蚀、电子束刻蚀和聚焦离子束刻蚀(FIB)等,可制作尺寸小于100nm的图形,但普遍存在加工速度慢及成本高等缺点. |
| 关 键 词： | 转移微模塑 微图案 弹性软模板 |
| 文章编号： | 0251-0790(2003)05-0946-03 |
| 收稿时间： | 2002-02-01 |
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