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| 反应磁控溅射制备TiO2和Nb2O5混合光学薄膜 | |
| 作者姓名： | 赖发春 林丽梅 瞿燕 |
| 作者单位： | 1.福建师范大学物理与光电信息科技学院,福州,350007 |
| 摘 要： | 利用反应磁控溅射技术在BK-7基片上制备了二氧化钛和五氧化二铌均匀混合的光学薄膜.薄膜的内部微结构、表面形貌、化学成分比例以及光学性质等用X射线衍射、高分辨扫描电子显微镜、原子力显微镜、X射线光电子能谱和紫外可见近红外分光光度计进行研究;发现制备的薄膜为非晶结构,薄膜的表面平整、内部结构致密,不存在柱状结构或结晶颗粒的缺陷,TiO2与Nb2O5的成分比例大致是1∶1.54.从光学透射光谱计算的折射率和消光系数显示,在550nm波长处的折射率为2.34,消光系数为2.0×10－4.结果表明制备的薄膜是TiO2和Nb2O5均匀混合的高质量光学薄膜. |
| 关 键 词： | 光学薄膜 混合 磁控溅射 光学性质 |
| 收稿时间： | 2005-10-27 |
| 修稿时间： | 2005-10-27 |
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