| 热处理对制备辉光放电聚合物薄膜结构及光学性能的影响 |
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| 作者姓名： | 贾晓琴 何智兵 牛忠彩 何小珊 韦建军 李蕊 杜凯 |
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| 作者单位： | 1. 四川大学, 原子与分子物理研究所, 成都 610065;
2. 中国工程物理研究院, 激光聚变研究中心, 绵阳 621900 |
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| 摘 要： | 利用低压等离子体聚合技术制备了约5 μm的辉光放电聚合物薄膜, 将所制备的样品放入热处理炉中通入氩气保护, 分别在280 ℃, 300 ℃, 320 ℃, 340 ℃进行热处理. 对热处理后的样品采用傅里叶变换红外吸收光谱(FT-IR)分析了不同热处理温度对薄膜结构的影响. 对CH振动区进行了分峰高斯拟合, 定量的分析了个官能团的变化. 利用紫外可见光谱仪分析了热处理前后薄膜在紫外–可见光区域内光学透过率及光学带隙的变化. 结果表明: 随着热处理温度的升高,薄膜中H含量减少, 薄膜中甲基相对含量减少, 而双键、芳香环结构相对含量增加, 在600 nm以后的可见光区, 薄膜的透过率减小. 薄膜光透过率的截止波长红移, 光学带隙减小.
关键词：
热处理
薄膜结构
等离子体聚合
光学性能
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| 关 键 词： | 热处理 薄膜结构 等离子体聚合 光学性能 |
| 收稿时间： | 2012-09-10 |
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