| 深度同步辐射光刻初探 |
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| 引用本文： | 田扬超 傅绍军. 深度同步辐射光刻初探[J]. 光学学报, 1994, 14(4): 47-448 |
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| 作者姓名： | 田扬超 傅绍军 |
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| 作者单位： | 中国科学技术大学国家同步辐射实验室 |
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| 摘 要： | ![]()
ＬＩＧＡ技术被认为是制作微机械最有前途的方法，而ＬＩＧＡ技术较为关键的一步是深度同步辐射光刻。报道了深度同步辐射光刻的进展，刻蚀出了外圆直径为３８μｍ～３９μｍ，叶长约８μｍ，高约２５μｍ的扇叶状微结构元件。
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| 关 键 词： | 同步辐射 光刻 掩模 |
| 收稿时间： | 1993-11-10 |
Primary Study of Deep-Etch Synchrotron Radiation Lithography |
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| Tian Yangchao, Fu Shaojun, Hong Ylin, Kan Ya, Tao Shaoming. Primary Study of Deep-Etch Synchrotron Radiation Lithography[J]. Acta Optica Sinica, 1994, 14(4): 47-448 |
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| Authors: | Tian Yangchao Fu Shaojun Hong Ylin Kan Ya Tao Shaoming |
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| Abstract: | ![]()
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| Keywords: | synchrotron radiation lithography |
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