|
|||||
|
|
| 扫描质子微探针质子束刻写 | |
| 引用本文： | 雷前涛, 刘江峰, 包良满, 等. 扫描质子微探针质子束刻写[J]. 强激光与粒子束, 2012, 24: 1603-1607. |
| 作者姓名： | 雷前涛 刘江峰 包良满 张仲建 余本海 李晓林 |
| 作者单位： | 1.中国科学院 上海应用物理研究所, 核分析技术重点实验室, 上海 201 800;;;2.信阳师范学院 物理电子工程学院, 河南 信阳 464000 |
| 摘 要： | 质子束刻写技术利用MeV能量的聚焦质子束对抗蚀剂材料直接刻写m甚至nm尺度微结构。研究了质子束刻写中抗蚀剂胶层样品厚度与涂层机旋转速度的关系以及曝光对抗蚀剂的影响,解决了质子束刻写中抗蚀剂厚胶层样品的制备、固化、显影等技术问题,利用扫描质子微探针系统,在正型抗蚀剂胶层上刻写出m尺度的海宝图形、 双矩形结构,在负型抗蚀剂上刻写出m尺度的平行线条、十字形微结构。 |
| 关 键 词： | 质子束刻写 扫描质子微探针 微结构 抗蚀剂 旋转涂胶 |
| 点击此处可从《强激光与粒子束》浏览原始摘要信息 | |
| 点击此处可从《强激光与粒子束》下载全文 | |