| 原子层沉积制备铱薄膜的特性研究 |
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| 引用本文： | 叶志杰,沈伟东,章岳光,张兴,袁文佳,李旸晖,刘旭.原子层沉积制备铱薄膜的特性研究[J].光学学报,2014(10). |
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| 作者姓名： | 叶志杰 沈伟东 章岳光 张兴 袁文佳 李旸晖 刘旭 |
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| 作者单位： | 浙江大学现代光学仪器国家重点实验室; |
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| 基金项目： | 国家高技术研究发展计划(2012AA040401);国家自然科学基金(61275161);浙江省自然科学基金(LY13F050001);中央高校基本科研业务费专项资金(2014FZA5004);江苏省先进光学制造技术重点实验室开放课题(KJS1304) |
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| 摘 要： | 以乙酰丙酮铱Ir(acac)3]和高纯氧为前驱体,采用原子层沉积(ALD)方法在基板温度为340℃的石英玻璃和硅基板上制备了金属铱薄膜。采用反射光谱测试仪、X射线电子能谱(XPS)、X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)等手段对不同厚度薄膜的微结构、表面形貌和光学性能进行了研究。结果表明,原子层沉积制备的Ir薄膜中元素纯度较高(大于95%),表面粗糙度低,并呈现多晶纳米颗粒。同时,Ir薄膜在紫外波段表现出较好的光学特性,可以用于制作Ir金属紫外光栅等光学器件。
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| 关 键 词： | 薄膜 原子层沉积 Ir薄膜 光学特性 |
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