| 等离子体化学气相淀积法生长Y2O3薄膜 |
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| 引用本文： | 彭定坤,于晖,孟广耀,沈瑜生.等离子体化学气相淀积法生长Y2O3薄膜[J].无机化学学报,1987,3(4):87-92. |
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| 作者姓名： | 彭定坤 于晖 孟广耀 沈瑜生 |
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| 作者单位： | 中国科学技术大学应用化学系 合肥
(彭定坤，于晖，孟广耀)，中国科学技术大学应用化学系 合肥(沈瑜生) |
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| 基金项目： | 中国科学院科学基金资助课题 |
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| 摘 要： | 采用等离子体激活的化学气相淀积装置系统,以钇的β-二酮类螯合物(Y(DPM)_3)为源物质,于低温低压等离子体条件下,在单晶硅、兰宝石和石英玻璃衬底上生长了Y_2O_3薄膜。对生长层进行形貌观察、表面组成分析、X-射线衍射结构分析和光学性能测试。结果表明,淀积层形貌和结构与衬底性质有关。Y_2O_3生长层与单晶硅和兰宝石衬底存在确定的外延关系,在无定形石英玻璃衬底上的生长层则是附着良好的非晶态膜。
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| 关 键 词： | 薄膜 化学气相淀积 氧化钇 |
| 收稿时间： | 1986/11/29 0:00:00 |
PLASMA CVD GROWTH OF Y2O3, THIN FILM |
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| Peng Dingkun,Yu Hui,Meng Guangyao and Shen Yisheng.PLASMA CVD GROWTH OF Y2O3, THIN FILM[J].Chinese Journal of Inorganic Chemistry,1987,3(4):87-92. |
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| Authors: | Peng Dingkun Yu Hui Meng Guangyao and Shen Yisheng |
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| Institution: | Department of Applied Chemistry, The University of Science & Technology of China,Department of Applied Chemistry, The University of Science & Technology of China,Department of Applied Chemistry, The University of Science & Technology of China and Department of Applied Chemistry, The University of Science & Technology of China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | thin film chemical vapor deposition (CVD) yttrium oxide |
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