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高剂量与高能量离了注入研究进展
引用本文:赵渭江,王宇钢,颜莎,薛建明,康一秀,虞福春.高剂量与高能量离了注入研究进展[J].原子核物理评论,1996,13(2):47-49.
作者姓名:赵渭江  王宇钢  颜莎  薛建明  康一秀  虞福春
作者单位:北京大重离子物理研究所
摘    要:综述了离子束材料实验室在高剂量与高能量离子注入研究方面的新进展,包括高剂量离子注入动态靶的模拟计算MACA程序、多能离子注入深度分布计算、MeV离子引起的HOPG表面操作、MeV离子诱变右旋糖酐生产菌种、高剂量离子注入在45号钢表面形成耐腐蚀的保护层以及在高速工具钢上形成含有大量超细碳化物的耐磨层. The development of high dose ion implantation and high energy ion implantation at the Ion Beam Application Group of IHIP in recent years is reviewed.

关 键 词:离子注入    动态靶    离子辐照损伤    材料表面改性
收稿时间:1900-01-01

Development of High dose and High energy Ion Implantation
Institution:(Institute of Heavy Ion Physics, Peking University, Beijing 100871),
Abstract:The development of high dose ion implantation and high energy ion implantation at the Ion Beam Application Group of IHIP in recent years is reviewed.
Keywords:
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