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四角晶相HfO2(001)表面原子和电子结构研究
引用本文:卢红亮,徐敏,陈玮,任杰,丁士进,张卫. 四角晶相HfO2(001)表面原子和电子结构研究[J]. 物理学报, 2006, 55(3)
作者姓名:卢红亮  徐敏  陈玮  任杰  丁士进  张卫
基金项目:中国科学院资助项目;上海市科委资助项目
摘    要:
采用基于第一性原理的密度泛函理论研究了四角晶相二氧化铪(t-HfO2)体相及其(001)表面的原子几何与电子结构.理论计算结果表明,t-HfO2(001)表面不会产生重构现象.与体相电子结构相比, t-HfO2(001)表面态密度明显高于体相态密度.其次,表面原子的态密度更靠近费米能级(EF),价带往低能量处移动,并有表面态产生.计算结果表明了t-HfO2表面禁带宽度明显低于体相的禁带宽度. t-HfO2(001)的表面态产生以及表面禁带宽度减小是由于Hf原子与O原子的配位数减少,表面原子周围的环境发生变化而引起的.

关 键 词:密度泛函理论  表面电子结构

Geometries and the electronic structures of t-HfO2 (001) surface
Lu Hong-Liang,Xu Min,Chen Wei,Ren Jie,Ding Shi-Jin,Zhang Wei. Geometries and the electronic structures of t-HfO2 (001) surface[J]. Acta Physica Sinica, 2006, 55(3)
Authors:Lu Hong-Liang  Xu Min  Chen Wei  Ren Jie  Ding Shi-Jin  Zhang Wei
Abstract:
Keywords:t-HfO2(001)
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