Bestimmung von Verunreinigungen in Silizium mit Hilfe der Aktivierungsanalyse

Mittels Aktivierungsanalyse wurde der Gehalt an Arsen, Antimon, Kupfer, Phosphor und Zink in Halbleitersilizium bestimmt. Die Methode besteht aus zwei Schritten:

1. Gruppentrennung durch Anionenaustausch mit einem Gemisch von Salz- und Fluorwasserstoffsäure,

2. Selektive substöchiometrische Extraktion von Arsen und Kupfer mit Diäthyldithiocarbamat, von Antimon mit Cupferron und von Zink mit Dithizon. Phosphor wurde extraktiv als Phosphomolybdat abgetrennt.