| 厚度诱导的YBa2Cu3O7-δ超导薄膜剩余应力及临界电流变化 |
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| 引用本文： | 曾琳,郝文嘉,白传易,鲁玉明,刘志勇,郭艳群,蔡传兵.厚度诱导的YBa2Cu3O7-δ超导薄膜剩余应力及临界电流变化[J].低温物理学报,2012(5):321-326. |
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| 作者姓名： | 曾琳 郝文嘉 白传易 鲁玉明 刘志勇 郭艳群 蔡传兵 |
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| 作者单位： | 上海大学超导及应用技术研究中心 |
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| 基金项目： | 国家973项目(批准号:2011CBA00105);国家自然科学基金(批准号:11174193);上海市科委项目(批准号:11dz1100300,10dz1203500)资助的课题~~ |
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| 摘 要： | 本文通过脉冲激光沉积法制备了不同厚度(80nm、320nm、1000nm和2000nm)的YBa2Cu3O7-δ(YBCO)超导薄膜,对它们的剩余应力和临界电流特性进行了对比研究.通过系列的激光显微Raman光谱和磁化曲线测量分别获得了薄膜剩余应力和磁化临界电流密度(Jc)对薄膜厚度的依赖关系.结果显示超导薄膜内剩余应力越小,Jc越高.对于中等厚度的薄膜样品(320nm和1000nm),其膜内剩余应力较小,同时由其特征的磁通匹配场大小推知在该厚度范围内的样品具有较高的线性缺陷密度,从而显示出较高的Jc值.
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| 关 键 词： | YBCO薄膜 厚度效应 临界电流密度 |
THE VARIATIONS OF INTERNAL RESIDUAL STRESS AND CRITICAL CURRENT INDUCED BY THICKNESS OF YBa2Cu3O7-δ FILM |
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| ZENG Lin,HAO Wen-jia,BAI Chuan-yi,LU Yu-ming,LIU Zhi-yong,GUO Yan-qun,CAI Chuan-bing.THE VARIATIONS OF INTERNAL RESIDUAL STRESS AND CRITICAL CURRENT INDUCED BY THICKNESS OF YBa2Cu3O7-δ FILM[J].Chinese Journal of Low Temperature Physics,2012(5):321-326. |
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| Authors: | ZENG Lin HAO Wen-jia BAI Chuan-yi LU Yu-ming LIU Zhi-yong GUO Yan-qun CAI Chuan-bing |
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| Institution: | Research Center for Superconductors and Applied Technologies,Shanghai,200444 |
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