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表面热处理研究石墨及含杂质单壁碳纳米管的C 1s X射线吸收谱
引用本文:买买提依明,奎热西,王家鸥,苏润,吴自玉,宋礼,解思深.表面热处理研究石墨及含杂质单壁碳纳米管的C 1s X射线吸收谱[J].中国物理 C,2003,27(Z1):45-48.
作者姓名:买买提依明  奎热西  王家鸥  苏润  吴自玉  宋礼  解思深
作者单位:1 中国科学院高能物理研究所 北京 100039;2 中国科学院物理研究所 北京 100080
摘    要:用表面敏感光电子能谱全电子产额模式(TEY)对石墨及含杂质单壁碳纳米管的C 1s X射线吸收谱进行了研究.在高真空里表面退火处理后,石墨C 1s X射线吸收谱中未占据π*和σ*态特征峰之间的小峰消失,证实此峰不是来自于一直被认为的所谓的类自由电子态,而来自于样品表面态,即表面结构扭曲或吸附气体所引起的结构变化.而且π*和σ*峰强度有明显的变化,提示着在研究不同纳米管未占据态的态密度对比研究中,原位温度处理是关键的.我们通过对含杂质不同单壁碳纳米管的态密度对比研究来说明这种处理过程的必要性.

关 键 词:石墨  单壁碳纳米管  X射线吸收谱
收稿时间:2003-11-21
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