| 纳米TiO2-x光催化膜中的缺陷结构与性能关系初探 |
| |
| 引用本文： | 霍爱群 谭欣. 纳米TiO2-x光催化膜中的缺陷结构与性能关系初探[J]. 化学通报, 1998, 0(11): 31-32 |
| |
| 作者姓名： | 霍爱群 谭欣 |
| |
| 作者单位： | 化工部天津化工研究院 300131,天津大学化工学院 300072 |
| |
| 摘 要： | 半导体TiO2由于具有较大的禁带宽度(TiO2Eg=3.2eV),常用作光化学降解反应的催化剂.利用溶胶-凝胶技术(Sol-Gel)制备薄膜型光催化剂,特别是在石英板或石英反应管壁上制备纳米级TiO2光催化剂膜已成为这一领域的研究热点[1].制备高活性光催化剂的突出问题是如何增加光生电子与空穴的产额,减少它们的复合几率,同时提高光催化膜的表面吸附能力.本实验采用溶胶-凝胶法制备出纳米级无机非整比TiO2-x膜,经过可控气氛热处理后,可在膜表面形成较多亚稳相氧空位(缺陷),为催化剂膜表面提供了更多的吸附中心和反应活性位,因此表现出较高的光催化反应活性[2].
|
| 关 键 词： | 纳米材料 光催化剂 二氧化钛 |
| 修稿时间： | 1998-02-17 |
Probe of the Relationship Between TiO2-x Nanocrystallite Defect Structure and Its Photocatalysis |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | |
| 本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录！ |
|
