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| 低陡度光刻胶光栅槽形研究 | |
| 作者姓名： | 刘全 万华 吴建宏 陈新荣 李朝明 |
| 作者单位： | 1.苏州大学 信息光学工程研究所,苏州,215006 |
| 基金项目： | 国家863高技术研究与发展计划和苏州大学青年教师研究基金 |
| 摘 要： | 为控制全息光刻胶光栅槽形,从研究显影时间、显影液温度等对光刻胶特性曲线的影响出发,采用计算机模拟和实验方法,制作出底部占宽比30%左右,陡度65°左右的低陡度光刻胶光栅掩模.研究发现：启动曝光量随显影时间的延长而减小,光刻胶特性曲线线性部分的斜率随着显影时间的增加而增加;显影液温度高的光刻胶启动曝光量大,其特性曲线线性部分的斜率也较大.这决定了制作低陡度光刻胶光栅掩模需要使用非1∶1的干涉曝光,以及必须采用较低温度的显影液进行显影处理.最终选用1∶7的干涉曝光和15℃的显影液. |
| 关 键 词： | 衍射光学 全息 光刻胶光栅掩模 槽形控制 |
| 收稿时间： | 2007-06-13 |
| 修稿时间： | 2007-08-15 |
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