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| 自适应模拟退火遗传算法在薄膜厚度及光学常数反演中的应用 | |
| 作者姓名： | 荆龙康 蒋玉蓉 倪婷 |
| 作者单位： | 1.北京理工大学光电学院,北京,100081;2.北京理工大学光电学院,北京,100081;3.北京理工大学光电学院,北京,100081 |
| 摘 要： | 准确的测量薄膜的厚度和光学常数,在薄膜的制备、研究和应用中都是十分重要的.借助Cauchy色散模型,通过薄膜透过率测量曲线,用改进的自适应模拟退火遗传算法对透过率曲线进行全光谱拟合,从而反演得到薄膜的厚度和光学常数.对由电子束蒸发制备的TiO2单层膜和SiO2/TiO2双层膜的厚度和光学常数进行了测量计算.实验结果表明,计算得到的光学参数与实测结果相一致,厚度误差小于2nm,在560nm波长处折射率误差小于0.03. |
| 关 键 词： | 光学常数 透过率曲线 Cauchy色散模型 自适应模拟退火遗传算法 |
| 收稿时间： | 2011-10-14 |
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