| JD树脂刻蚀及涂层的XPS研究 |
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| 引用本文： | 高长有,郑大方.JD树脂刻蚀及涂层的XPS研究[J].高等学校化学学报,1995,16(1):147-151. |
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| 作者姓名： | 高长有 郑大方 |
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| 作者单位： | 吉林大学化学系，吉林大学测试中心 |
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| 摘 要： | ＪＤ光学树脂表面刻蚀过程的ＸＰＳ研究表明，引进树脂遥ＣＯＨ，Ｃ＝Ｏ，Ｃ－ＳＯ３Ｈ，ＣＯＯＨ等基因随刻蚀温度的提高或时间的延长而增加，对其相对含量进行了计算，固化后的耐磨涂层具有ＳｉＯ２结构，ＪＤ板材的最佳刻蚀条件为２０℃，２０ｍｉｎ。
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| 关 键 词： | 刻蚀 光学塑料 涂层 树脂 XPS |
Studies of Coating and Etching Process of JD Resin with XPS |
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| GAO Chang-You, ZHENG Da-Fang, YANG Bai, WEI Quan, SHEN Jia-Cong.Studies of Coating and Etching Process of JD Resin with XPS[J].Chemical Research In Chinese Universities,1995,16(1):147-151. |
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| Authors: | GAO Chang-You ZHENG Da-Fang YANG Bai WEI Quan SHEN Jia-Cong |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | XPS Etching Adhesion strength Optical plastic Coating |
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