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磁控溅射PbSe薄膜厚度对其结构及光学特性的影响
引用本文:王晓阳,冯文然,周海,姚静,李健.磁控溅射PbSe薄膜厚度对其结构及光学特性的影响[J].人工晶体学报,2014,43(5):1105-1109.
作者姓名:王晓阳  冯文然  周海  姚静  李健
作者单位:北京化工大学材料科学与工程学院,北京,100029;北京石油化工学院材料科学与工程学院,北京,102617
基金项目:北京市自然科学基金(1112011)
摘    要:本文利用射频磁控溅射法在200℃的玻璃衬底上沉积了纳米晶PbSe薄膜,薄膜厚度分别为200 nm、250 nm、500 nm及600 nm.利用X射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)及紫外-可见分光光度计,分别研究了不同厚度PbSe薄膜的晶体结构、表面形貌和光学特性.结果表明:随膜厚增大,PbSe (200)晶面的择优取向显著增强,薄膜的结晶质量逐渐提高.此外,随薄膜厚度增加吸收边发生红移.膜厚为200nm、250 nm时,薄膜的禁带宽度为1.89 eV和1.60 eV;膜厚较大(500 nm及600 nm)时,带隙宽度减小至1.41 eV和1.34 eV,与太阳的光谱辐射更加匹配.因此,我们认为厚度较大的PbSe薄膜更适于用做太阳能电池的吸收层.

关 键 词:PbSe薄膜  磁控溅射  膜厚  光学性能  

Effect of Thickness on Structure and Optical Properties of PbSe Thin Film Deposited by Magnetron Sputtering
WANG Xiao-yang,FENG Wen-ran,ZHOU Hai,YAO Jing,LI Jian.Effect of Thickness on Structure and Optical Properties of PbSe Thin Film Deposited by Magnetron Sputtering[J].Journal of Synthetic Crystals,2014,43(5):1105-1109.
Authors:WANG Xiao-yang  FENG Wen-ran  ZHOU Hai  YAO Jing  LI Jian
Abstract:
Keywords:
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