P和α引起Al原子内壳层多电离的研究 |
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引用本文: | 缪竞威,N.Cue.P和α引起Al原子内壳层多电离的研究[J].原子与分子物理学报,1990(1). |
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作者姓名: | 缪竞威 N.Cue |
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作者单位: | 四川大学原子核科学技术研究所
(缪竞威),英国纽约州立大学阿伯尼分校物理系(N.Cue) |
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摘 要: | 本文用高分辨弯晶谱仪对0.666MeV/amu的质子和α粒子激发Al的K_αx射线进行了研究。测量了K壳层一个空位和L壳层多个空位产生的x射线相对强度比。将测定的平均电离几率P_L(E_i,0)和BEA理论的预言值进行了比较。结果表明:BEA理论对质子和α的数据符合得很好。
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