| 浴法抛光中抛光粉粒径对去除效果影响的试验研究 |
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| 引用本文： | 张杨,徐清兰,陈梅,张蓉竹. 浴法抛光中抛光粉粒径对去除效果影响的试验研究[J]. 光学技术, 2014, 0(6): 486-491 |
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| 作者姓名： | 张杨 徐清兰 陈梅 张蓉竹 |
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| 作者单位： | 四川大学电子信息学院;中国科学院光电技术研究所; |
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| 摘 要： | 为了分析抛光粉粒径对材料去除效果的影响,选用不同的平均粒径以及不同比例混合氧化铈抛光粉分别对K9玻璃进行了抛光试验。对抛光后的工件表面粗糙度及去除量进行了定量研究。结果表明,在试验条件相同的情况下,不同平均粒径的抛光粉,粒径越小,抛光后的元件表面粗糙度越好。从使用不同比例的混合抛光粉试验中可以看出,粒度的均匀性是影响工件表面粗糙度的重要因素。结合抛光粉粒度分布图和试验结果可以看出,抛光粉粒子的分布范围越小,以及各粒径大小分布在峰值附近的粒子所占体积百分比越接近,加工后的工件表面粗糙度越小。
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| 关 键 词： | 浴法抛光 抛光粉粒径 抛光粉均匀性 表面粗糙度 去除速率 |
Experimental study of the influence of slurry particle size on material removal consequent in bowl-feed polishing |
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