首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
文章检索
  按 检索   检索词:      
出版年份:   被引次数:   他引次数: 提示:输入*表示无穷大
  收费全文   4篇
  完全免费   3篇
  物理学   7篇
  2016年   1篇
  2014年   1篇
  2002年   1篇
  2000年   2篇
  1996年   1篇
  1995年   1篇
排序方式: 共有7条查询结果,搜索用时 15 毫秒
1
1.
选通式象增强器的新型导电基底   总被引:2,自引:0,他引:2       下载免费PDF全文
本文介绍了采用光刻技术制备的一种新型的导电基底,它的面电阻≤ 10Ω,透过率约为 89%.在该基底上研制出的选通式象增强器,可实现选通时间在 ns级以上的高速选通,适用于微光、瞬时多通道高速光谱分析系统和高速摄影系统.  相似文献
2.
朱建华  郭履容 《光学学报》1996,16(9):301-1305
报道一种新型的聚合物全息记录材料:光刻蚀纤维素软片(PCF),对该材料较强的实时特性、较高的分辨本领、线性的表面浮雕调制特性等进行了实验研究,同时通过电子自旋共振谱(ESR)、红外谱(IR)等手段研究了其成像过程中的光化学反应过程,证实了它的光降解机理。  相似文献
3.
林妩媚  王效才 《光学学报》2000,20(8):148-1150
介绍0.35μm分步重复投影光刻物镜的设计要点,包括数值孔径、结构形式的确定、材料的选择。介绍了光刻物镜设计的难点、创新点及设计结果。  相似文献
4.
本文首次提出了双镀层振幅型高温云纹光栅的制作工艺,并应用此工艺在铍青铜、不锈钢材料上制作高温栅,并且分别进行了550℃长时间氧化实验和750℃的短时间氧化实验,实验结果表明,此工艺是可行的。  相似文献
5.
 采用光刻及离子束蚀刻技术制作面阵石英DNA芯片模版,利用扫描电子显微镜(SEM)和表面轮廓仪测试了所制石英DNA芯片模版的表面微结构形貌特征,分析了所制石英DNA芯片模版出现图形畸变的原因。所用工艺为在其它衬底材料表面制作更大规模及具有复杂结构的大面阵DNA芯片模版奠定了基础。  相似文献
6.
介绍了制备某太赫兹频率真空辐射光栅的超厚胶光刻工艺,针对工艺中的难点(大厚度和高深宽比)展开了深入分析。实验分析了基片处理、涂胶、前烘、曝光、后烘、显影等工艺过程对光刻的影响,通过优化工艺参数,解决了胶膜脱落、开裂,不同胶层间的结合,光栅沟槽间的光刻胶残留等问题,成功制备了厚度为700μm、深宽比为14的侧壁陡直、表面平整的双光栅结构胶膜。  相似文献
7.
针对锥形半导体激光器中的脊形波导区宽度较小的问题,对半导体激光芯片制造中的刻蚀标记及刻蚀方法进行了研究。提出对于锥形半导体刻蚀中的脊型区域和锥形区域,采用不同精度的双标记刻蚀方法,细化对脊形波导和锥形波导的刻蚀中的对准问题,并使光刻标在不同的光刻版上相错位排列,在相应光刻版中相互遮挡,反复刻蚀中保证相应的光刻标清晰、完整。刻蚀后的芯片在电流为7 A时获得了中心波长963 nm、连续功率4.026 W、慢轴方向和快轴方向激光光束参数乘积分别为1.593 mm·mrad和0.668 mm·mrad的激光输出。  相似文献
1
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号