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1.
2.
界面应力的正确评价是分析薄膜涂层材料力学特性的难题之一。利用镜像点法和Dirichlet等值性原理,本文推导了等厚双层薄膜涂层材料受表面集中力作用的平面问题理论解。该显式理论解是以固定在各镜像点上的局部坐标系下的Goursat应力函数的形式给出的。对应于高阶镜像点的应力函数,可通过递推的方法,从对应于低阶镜像点的应力函数求得,而且也易于计算机编程。随着镜像点阶数的增大,它与界面的距离也越来越大,因而相对应的应力函数对界面应力的影响越来越小。最后的算例表明,只需考虑前面有限个镜像点,便可获得足够精度的解。该理论解可作为格林函数,以求解复杂问题的理论解,也可用作边界元法的基本解,提高数值计算的精度和效率。 相似文献
3.
4.
由于具有良好的耐磨、抗腐蚀性以及高氧化性,目前,CrN涂层被证明是提高轴承寿命的最佳方法之一。然而随着机械器件工作环境恶劣程度的增加,单一的涂层已不能满足一些特殊的要求,尤其对于轴承,更需要寻求一种新的涂层技术来进一步提高其耐磨性、耐腐蚀性等特性。90年代以来,多层复合技术的应用受到了极大的重视。 相似文献
5.
热喷涂技术的现状和发展 总被引:4,自引:0,他引:4
介绍了热喷涂工艺的特点,喷涂方法的种类及其技术以及热喷涂技术的应用概况,并对热喷涂技术的发展方向给予了展望。 相似文献
6.
7.
本文应用表面分析技术研究HL-1装置中SiC涂层的等离子体辐照性能。结果表明,SiC材料应用于孔栏和壁涂层有利于减少杂质和提高等离子体品质。 相似文献
8.
Synthesis and Structure of Ag_3PSe_4 总被引:1,自引:0,他引:1
The title compound Ag3PSe4 was synthesized by the reaction of Ag powder,P2Se5 and Se in a molar ratio of 1:1:1 at 500℃ and structurally characterized by X-ray crystallography.The crystal belongs to orthorhombic,space group Pmn21 with cell parameters:a=7.689(4),b=6.660(3),c=6.379(4)A,V=326.7(3)A^3,Z=2,Dc=6.816g/cm^3,Mr=670.42,F(000)=584,μ=31.302mm^-1,R=0.0606,wR=0.1289 and S=1.012,The 3-D structure can be regarded as constructed from the stacking of puckered Ag-P-Se honeycomb-like sheets along the c direction,in which the Ag,P and Se atoms are bonded to each other to form a chair-like six-membered ring,and the rings then build the sheets by sharing edges. 相似文献
9.
10.
有机硅耐磨透明涂层的固化分析 总被引:13,自引:0,他引:13
FTIR、TG、TBA等对有机硅耐磨涂料(有机硅溶胶)的热固化过程研究表明有机硅胶体中缔合羟基间的脱水缩合速率很高;羟基脱水程度与固化温度有关,温度越高,达平衡时羟基的浓度越低,在105~130℃间羟基的浓度变化最大,加入适当的固化剂,对羟基的脱水交联有促进作用,在较高的固化温度下,反应体系中出现了环氧环异构化产生的酮羰基的吸收峰 相似文献