用5种不同的电子光学软件对微波管电子枪进行模拟计算

 对TWTCAD微机版、工作站版本、EGUN，CAMEO以及Orprogr电子光学软件背景和特点作了一个简单介绍，并利用其模拟计算了11支不同结构的电子枪。将计算得到的导流系数、射程和注腰半径与实验数据列表对比，结果表明：不同电子光学软件计算不同类型电子枪其计算精度也不一样。在导流系数方面，EGUN和Orprogr的计算精度较高，绝对平均误差分别为7.18%和7.4%；在射程方面，TWTCAD的计算精度最高，绝对平均误差为5.69%；在注腰半径方面，Orprogr与实验值偏差较大，绝对平均误差为47.43%，而工作站版本的计算精度最高，绝对误差仅为2.29%。     

三维曲光轴坐标下的旁轴电子光学

从费马原理出发，应用微分几何的曲线坐标定义，给出了三维曲光轴坐标中电子在旁轴下的一级和二级近似轨迹方程式.借助于对电场和磁场的数值计算，可以分析电磁场分布和电子运动轨迹复杂情况下的电子光学性质.给出了对一种电子束扫描式扁平显像管电子光学系统的计算结果，并给以定性说明. 关键词：     

电子光学中四极场分布的半解析法计算

 采用一种新的半解析法,对电子光学中3种不同形状电极产生的四极场进行分析计算。半解析法中极点的确定方法简单有效,可以结合电极的形状填充等效源,并且极点位置确定极为精确。在四极场的计算中,该方法具有表达式简单,求解变量少,而且计算精度和效率高的优点。对凸圆柱电极、内凹圆柱电极以及平板电极产生的四极场进行了求解,并将计算结果进行了比较,应用半解析法在计算凸圆柱电极产生的四极场具有更为明显的优势,精度可达0.001%。由于半解析法可得出标量电位函数的解析级数表达式,因此,场强的计算更加简便,同时也更容易保证场强的计算精度,这也有利于四极场的设计和优化。     

多聚焦极栅控电子模拟源的研究

采用电子光学软件设计模拟了一种长焦距多聚焦级的电子枪结构.利用电子透镜原理分析多聚焦极电子枪的电子束斑产生,依据不同栅控电压,分析零场模式、拒斥场模式和肖特基场模式3种阴极电子发射方式下电子聚焦情况.模拟结果表明:拒斥场模式和肖特基场模式对电子束流密度分别有减弱和增强的作用;当聚焦极电压比U1∶U2∶U3∶U4∶U5=5∶8∶15∶70∶100时,能量为30keV的电子束焦斑最小,在10m处焦斑大小为160mm.     

毫米波静电聚焦行波管电子光学系统的设计

介绍了静电聚焦方式在毫米波行波管中的独特优势,分析了周期静电聚焦场的建立方法。基于某Ka波段行波管,首先根据指标要求设计了强流电子枪并选择类梳齿状结构作为其慢波电路,然后对电子枪和类梳齿状慢波电路组成的电子光学系统进行了模拟计算,最后对慢波电路的关键尺寸进行了容差分析。结果显示,在周期静电场的作用下,电子注全部平稳地通过了慢波系统。良好的静态通过率为后续高效率的注-波互作用奠定了基础,证明了利用静电场聚焦毫米波行波管中大电流密度电子注的可行性。     

静电聚焦同心球系统的成像电子光学 B章：近轴横向色差与几何横向球差

在A章基础上,进一步研究两电极静电聚焦同心球系统的轴上点电子光学横向像差。研究表明,对于成像电子光学系统,由光阴极发射的电子所形成的图像弥散,其轴上点的图像弥散由近轴横向色差与几何横向球差两部分组成,这证明了在静电聚焦同心球系统中,阴极透镜的二级近轴横向色差即Recknagel-Apцимович公式普遍成立。研究了宽电子束与细电子束之间轴上点横向像差之差异,最后讨论了两电极同心球系统向近贴聚焦系统过渡的特例。     

强流电子枪电子光学性能的研究

 利用SLAC-226程序对一种工业用大功率电子加速器(450kW)的电子枪光学系统性能进行了研究。计算程序以带电粒子的洛伦兹力运动方程的相对论形式为基础，在充分考虑了空间电荷效应和电子自身产生磁场的情况下编写而成。在该程序中，网格的划分采用正方形网格；解泊松方程采用半迭代切比雪夫法；解轨迹方程采用四阶龙格 库塔法。经过对轴上电位的优化计算，得到了轴上电场的分布，电子轨迹以及阳极孔处的径迹斜率等结果，并且对外加电场与空间电荷场对束流的聚焦作用作了比较分析。计算发现，电子初始角和初始能量（对束流的）聚焦性能影响很小，二极管间距 d=58.5mm时对束流聚焦最有利。     

邮票上的光学史

前言 光学是一门古老而又新奇的科学.它的历史本文将通过有关邮票加以说明,这是一篇光学史的精彩而又十分完整的介绍.本文按照<邮票上的光谱学史>[1]和<邮票上的化学史>[2]两文的格式撰写.除了第八节生理光学的部分外,所讨论的内容均按年代的先后顺序论述.有关光的本性的内容谈得很少,而光谱学和电子光学的内容则全部略去.     

Discrete Dipole Approximation Aided Design Method for Nanostructure Arrays

A discrete dipole approximation （DDA） aided design method is proposed to determine the parameters of nanostructure arrays. The relationship between the thickness, period and extinction efficiency of nanostructure arrays for the given shape can be calculated using the DDA. Based on the calculated curves, the main parameters of the nanostructure arrays such as thickness and period can be determined. Using this aided method, a rhombic sliver nanostructure array is designed with the determinant parameters of thickness （40 nm） and period （440 nm）. We further fabricate the rhombic sliver nanostructure arrays and testify the character of the extinction spectra. The obtained extinction spectra is within the visible range and the full width at half maximum is 99nm, as is expected.     

聚焦偏转复合系统的相对论渐近象差理论

本文给出了电-磁的聚焦-偏转复合系统的相对论渐近三级几何象差及相对论一级色差的普遍理论,其中所有的象差系数都不含高于二阶的导数,并且彻底克服了Hawkes渐近象差理论中的发散困难。