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1.
利用两种不同重均分子量的改性酚醛树脂(PF)与一种三个酯化度的四羟基二苯甲酮-重氮萘醌磺酸酯光敏剂(PAC)按比例配制,加入适量助剂优化感光性能,制备出一种应用于电子触屏加工领域的Ⅰ-line正性光刻胶,其具有刻蚀精度高、工艺性能优良、单位成本较低等优势特点. 相似文献
2.
《影像科学与光化学》2021,39(4)
极紫外光刻(EUVL)是实现22 nm及以下节点集成电路制造最为高效的工艺技术。本文介绍了EUV光刻胶树脂的结构特点及其对光刻性能的影响,并着重整理了近年来化学增幅型和非化学增幅型EUV光刻胶树脂的合成方法。最后,对EUV光刻胶树脂的结构设计进行了分析与展望。 相似文献
3.
由于SU-8光刻胶的内应力将会影响高深宽比结构的全金属光栅的制作质量,本文针对近年来SU-8光刻胶应力测量困难的情况,提出了一种基于激光剪切散斑干涉技术的SU-8光刻胶应变分布测量的新方法。该方法通过对被测胶体加载前后两幅干涉图像的处理,直接得到被测胶体结构的全场应变分布情况,由胶体的应变变形数据即可反映出内应力的变化和分布趋势。同时使用ANSYS有限元分析软件对同一被测胶体进行应变仿真模拟研究,获得胶体结构的变形场仿真数据。组建了实验系统,进行了实验验证,结果表明:实际测量变形量约为1.189μm,仿真的最大变形量为1.088μm,测量误差在允许范围内,且测量的形变趋势与仿真模拟结果相一致,表明激光剪切散斑干涉技术可应用于SU-8光刻胶的应变分布全场无损检测。 相似文献
4.
5.
6.
7.
8.
折射型微透镜列阵的光刻热熔法研究 总被引:8,自引:1,他引:7
研究了制作折射型微透镜列阵的一种新方法光刻胶热熔成形法,获得了20×20的折射型微透镜列阵,单元微透镜相对口径为F/2,单元透镜直径为90μm,中心间隔100μm,透镜的波像差小于1.3波长。本文详细阐述了光刻热熔法的基本原理及微透镜设计方法,并讨论了工艺参数对微透镜列阵质量的影响。 相似文献
9.
本文用选择铌膜刻蚀或选择铌膜阳极氧化过程研究了全铌隧道结Nb/AlOxAl/Nb的制备.借助于SEM,利用曝光后烘烤处理研究了高质量光刻胶图形的制备工艺,并分析了其对铌结特性的影响.结面积为7μm2的铌结具有典型的IV曲线,在4.2K时,他们的特性参数Vm~20mV,能隙电压Vg~2.7mV,临界电流密度Jc~3000A/cm2,比电阻ρn~1μΩcm2.这些铌结能够被直接应用于dcSQUID. 相似文献
10.
提出了一种用于大规模多晶硅太阳能电池生产的制绒工艺,采用负性光刻胶作为湿法刻蚀的掩膜,制备蜂巢状低反射率绒面.通过研究氢氟酸/硝酸溶液中各向同性刻蚀时腐蚀坑的形成过程,发现随着刻蚀时间的增加,在掩膜图形的开孔下逐渐形成六方分布的球面形状的腐蚀坑,腐蚀坑的深径比(深度/开孔直径)出现先上升然后下降的趋势.同理论计算值对比发现,随着刻蚀时间增加,掩膜和硅片的附着紧密性及掩膜的阻挡效应降低,酸液可能渗入了掩膜和硅片的界面,横向刻蚀速度快速上升,降低了深径比,导致实际的反射率高于理论计算值.尽管如此,本文还是成功制备了孔径15微米的蜂巢状绒面,反射率达到了22.9;. 相似文献