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在此之前已经报道了二维斜面颗粒流在通道中的分布规律以及二维斜面粗糙边界附近的颗粒 流量密度(ξ=ρ·ν)分布.本文则主要研究通道宽度W对边界附近颗粒流量密度(ξ=ρ· ν)分布的影响.结果表明,颗粒流量密度随通道宽度的变化(ξ W)存在一临界通道宽度W c.在本实验条件下临界通道宽度Wc=70d.当通道宽度小于临界宽度Wc时 ,通道中距边界20d—30d区间内的相对颗粒流量密度随斜面倾斜角的变化可描述为ξ∝( sinθ)α,α是与通道宽度W有关的参数,其数值在032至085之间.
关键词:
二维颗粒流
颗粒物质
颗粒流量密度 相似文献
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以往的实验研究中,已经知道粗糙边界条件下,二维颗粒流的颗粒流量是以通道中心横向对称分布的,颗粒流横向分布既受通道宽度的影响,同时也受通道斜面倾斜角的影响,而且颗粒在通道两侧的分布明显少于通道中间. 主要研究粗糙边界附近颗粒分布随通道宽度以及通道斜面倾斜角的变化规律. 在稀疏流状态以及保持边界墙体的粗糙度不变的条件下,对应不同通道宽度,粗糙边界附近10d范围内的颗粒流量密度(ξ=ρv)随斜面倾斜角的增大而减小,颗粒流量密度随通道宽度的变化存在一临界宽度Wc;在通道宽度小于Wc时,粗糙墙体附近10d范围内颗粒流量密度ξ随sinθ呈指数衰减,通道宽度大于Wc时,颗粒流量密度ξ_sinθ曲线随θ增大几乎呈线性减小.
关键词:
二维颗粒流
颗粒物质
颗粒流量密度 相似文献
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本文着重介绍了 CO /Si( 100)界面 CO原子与表面 Si原子的相互作用. 在不同覆盖度或经不同退火温度处理, CO, Si原子之间存在不同的相互作用. 当覆盖度为 10ML时经 350℃退火处理后, Si( 100)表面将形成 COSi2 处延. 相似文献
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此前曾研究过传送带出口处瓶颈开口角度对颗粒流的影响.在稀疏流状态下改变瓶颈开口角度θ,当θ大于15°时,颗粒流量Q随着cosθ呈线性变化,颗粒流量Q可表示为:Q(θ,v,R,ρ)=ρo·R·v-K(ρ,R,v)·cosθ(ρo是开口角为90度时颗粒在瓶颈开口处的平均密度).本文着重研究了颗粒流量Q与速度v、瓶颈开口R以及颗粒密度ρ的关系,结果发现在稀疏流状态下颗粒流量Q在任何开口角度下与速度v以及瓶颈开口R都呈线性关系,但颗粒流密度ρ却是瓶颈开口角度θ以及开口尺寸R的函数,ρ(R)与COSθ呈非线性关系. 相似文献
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