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用能带理论研究了Cu(111)、Cu(110)和Cu(100)表面的振动弛豫。结果表明,第一内层间距为2.073±0.008(收缩0.53%±0.008)[对Cu(111)],1.25±0.01(收缩2.2%±0.01[对Cu(110)],1.815±0.001(膨胀0.55%±0.001)[对Cu(100)];而第二内层间距为2.15±0.01(膨胀2.2%±0.01[对Cu(111)],1.32±0.01(膨胀3.6%±0.01)[对Cu(110)],2.084±0.001(膨胀15.5%±0.001)[对Cu(100)];而第三内层间距为2.24±0.01(膨胀7.3%±0.01时Cu(111)]。 相似文献
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引言我们曾研究了金属镍,铜,钛,钨,铝,铁,银,铂,钼等和非金属硅与石墨及ⅢA—VA与ⅡB—ⅥA化合物晶体等的弛豫、重构和吸附表而的60多个表面结构。本文报道研究Ag(100)c(2×2)—C1表面的结果。Zanazzi和Jona观测了Ag(100)c(2×2)—C1表面结构的21束LEED谱,并采用层—KKR(Korring—Kohn—Rostocker)法,对清洁的Ag(100)表面吸附C1原子时假设了4种结构模型。经理论计算与观测值的比较,提出了C1原子的单层吸附和C1原子与Ag原子 相似文献
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用低能电子衍射谱计算过渡金属吸附CO的表面结构 总被引:3,自引:0,他引:3
本文用低能电子衍射谱研究了CO分子吸附在过渡金属上的表面结构。 相似文献
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用低能电子衍射研究了GaAs(110)表面的弛豫。发现当理论与实验之间符合得最好时,得到的结构是,保持表面上As—Ga键长不变用一个27.32°±0.24°的旋转角(ω),使As原子向外移动0.10±0.02?,Ga原子向内移动0.55±0.02?,而从Ga到第二层时空间为d2=1.45±0.01?,从第二层Ga到第三层的空间为d3=2.01±0.01?。对此结构As的背键长lAs=2.43±0.01?(收缩0.56%),而Ga的背键长lGa=2.253±0.004?(收缩8.0%)。
关键词: 相似文献
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用LEED研究了过渡金属fcc{110}表面的重构。发现当理论与实验之间符合得最好的结构是:顶层原子为失排模型,第二层原子为对排模型,第三层原子为锯齿模型和第四层原子是折模型。对这些重构表面的弛豫率(α)是:-0.034(对Cu),-0.069(对Pd),-0.079(对Ag),-0.117(对Au),-0.074(对Ni),-0.144(对Pt)和-0.147(对Ir)。 相似文献
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用低能电子衍射研究了ⅢA-VA和ⅡB-VIA化合物(110)和(1010)表面的弛豫,发现当理论计算与实验符合得很好时其结构是:保持表面上A-B键长不变,用一个旋转角ω,使B原(离)子向外移动,A原(离)子向内移动,第一表面原子层间距d1=0.610-0.810?[对ⅢA-VA(110)],0.536—0.825?[对ⅡB-VIA(110)]和0.633-1.060?[对ⅡB-VIA(1010),第二表面原子层间距d2=1.300-1.610?[对ⅢA-VA(100)],1.430-1.700?[对ⅡB-VIA(110)]和0.820-0.930?[对ⅡB-VIA(1010),而第三表面原子层间距d3=1.410-2.440?[对ⅢA-VA(110)],2.020-2.250?[对ⅡB-VIA(110)]和1.910-2.440?[对ⅡB-VIA(1010)]。对此结构,弛豫率α是:0.24±0.02[对ⅢA-VA(110)],0.25±0.02[对ⅡB-VIA(1010)]和0.33±0.03[对ⅡB-VIA(1010)]。
关键词: 相似文献