单晶光纤损耗谱测量装置

本文描述了一套用以测量单晶光纤损耗谱的装置。本装置由卤钨灯,单色仪,积分球,AgORbCs光电倍增管以及数据采集,处理和控制系统组成。可测量300～1150nm的光谱范围。利用本装置可获得单晶光纤的吸收光谱,透过率谱,散射光谱以及散射位置谱。     

GaP:N液相外延材料发光区域的荧光测量

通过磨斜角,用光致发光法测量了ＧａＰ：Ｎ液相外延（ＬＰＥ）材料中ｎ区和ｐ区的发光强度。从被测 荧光谱中可以看出,ｎ区和ｐ区均为发光区域,但是在ｐ－ｎ结两侧氮（Ｎ）浓度大致相同的情况下,ｐ区的发光强度明显高于ｎ区的发光强度,约为ｎ区发光强度的３～５倍,此实验结果表明,在ｐ、ｎ结附近杂质浓度较低情况下,ＧａＰ：Ｎ绿色发光外延材料中的发光区域主要是在ｐ区。     

YAG晶体中Cr~（3＋）→Tm~（3＋），Er~（3＋）→Tm~（3＋）的能量

研究了加入敏化离子Ｃｒ３＋和Ｅｒ３＋的Ｔｍ：ＹＡＧ晶体的吸收谱和荧光谱，计算了Ｃｒ３＋、Ｅｒ３＋、Ｔｍ３＋离子的２Ｅ、４Ｉ１３／２、３Ｆ４能态的平均寿命及能量；转移效率、转移速率．得出Ｃｒ３＋→Ｔｍ３＋转移效率为８０％，转移速率为２．１×１０３ｓ－１．由（Ｅｒ，Ｔｍ）：ＹＡＧ的荧光谱可见存在Ｅｒ３＋→Ｔｍ３＋的有效的能量转移．讨论了Ｃｒ３＋→Ｔｍ３＋和Ｅｒ３＋→Ｔｍ３＋能量转移的不同．     

GaP:N光致发光的脉冲测量

本文介绍了由脉冲式溴代铜激光器和Boxcar平均器等组成的光致发光测量装置.测量了液相外延片GaP:N在不同温度(80～300K)下和不同厚度处的光致发光谱.根据谱图,分析了绿色发光机理.     

利用光声光谱研究掺硫非晶硅薄膜的吸收特性

本文考虑到薄膜样品表面的多次反射,从理论上推导了光声信号的表达式.对α-Si:H薄膜和掺硫α-Si:H薄膜随入射光波长变化的吸收系数曲线进行了测定,并获得了光学带隙与掺硫浓度的关系.     

GaP材料热导率的测量

针对目前用于半导体材料掺杂浓度纵向深度分布测量用的方法，如Ｃ－Ｖ法、电化学法等方法对样品造成的损伤或污染，本文提出一种非接触式的光热法测量技术。并结合室温下光热法测得的实验数据计算了ＧａＰ∶Ｎ多层材料中不同杂质浓度下的热导率，获得热导率随半导体内掺入的杂质浓度增加而减小的关系。这一结果与现有用光热法测量单层结构的半导体材料得到的规律相符合，从而表明了用光热法对层状半导体材料进行掺杂浓度纵向分布测量的可行性；同时还讨论半导体内临近层间结晶程度的差异对光热信号幅度造成的影响。     

多层不均匀材料中光吸收系数深度分布计算的理论处理

提出了一种通过光热法测定与样品表面温度有关的光热信号，重构反映多层不均匀材料中光吸收系数深度分布的理论处理和新的有效数值计算方法，数值模拟显示了较好的逼近效果。