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1.
在四阶微分方程非线性项f中含有未知函数“的二阶导数u”的情况下,运用Avery-Peterson不动点定理,研究了一类四阶微分方程三点边值问题三个正解的存在性,得到了该类边值问题存在三个正解的充分条件.  相似文献   
2.
结合大分子自组装和分子印迹技术制备了分子印迹聚合物胶束,并通过电沉积将其固载到电极表面得到分子印迹电化学传感器.首先以甲基丙烯酸二甲氨基乙酯(DMA)、丙烯酸羟乙酯(HEA)、丙烯酸二异辛酯(EHA)和苯乙烯(St)合成了共聚物poly(DMA-co-HEA-co-EHA-co-St),在其侧链接枝上双键得到可光交联的双亲共聚物.以水为沉淀剂诱发该双亲共聚物在含有对乙酰氨基苯酚的溶液中自组装,得到印迹有对乙酰氨基苯酚的聚合物胶束,利用动态激光光散射(DLS)和透射电镜(TEM)表征其尺寸和形貌.最后通过电沉积技术诱导印迹胶束在金电极表面组装,经紫外光辐照交联后,洗脱模板分子形成分子印迹膜,制备了对乙酰氨基苯酚分子印迹传感器,通过循环伏安法、差分脉冲溶出伏安法研究此印迹传感器的性能.实验结果表明,该传感器对对乙酰氨基苯酚具有良好的选择性和灵敏度,浓度响应线性范围为1×10-6到4×10-3mol/L,检测限为3.3×10-7mol/L.  相似文献   
3.
罗静  刘仁  刘晓亚 《化学教育》2021,42(2):6-10
本着培养涂料行业精英人才的宗旨,针对涂料行业对人才需求的特点,结合多年教学经验,从教材的选择、教学内容设置、教学方法改进以及考核方法改革等4个方面探索了“功能涂料”课程的教学方法改革与课程实践。通过自编教材,精心设置授课内容,将科研成果、前沿知识、生活场景、新闻事件与书本知识相结合,提高课堂的趣味性;通过讨论法和交换式互动上课来加强课堂的互动性;通过过程性评价提高课程的学业挑战度。通过教学改革,本课程的选课率和出勤率得到了大幅提高,学生对涂料的兴趣明显增加,毕业后选择进入涂料领域工作的学生也越来越多。  相似文献   
4.
以1-(4-乙烯基苄基)胸腺嘧啶(VBT)、苯乙烯(St)、马来酸酐(MA)为共聚单体,采用自由基聚合法制备了双亲性共聚物P(St/VBT-co-MA)(PSVM)。PSVM在选择性溶剂N,N-二甲基甲酰胺(DMF)的水溶液中进行自组装可形成胶束。利用透射电镜(TEM)和动态激光光散射(DLS)表征了自组装胶束的形态和粒径分布。以该胶束作为颗粒乳化剂稳定白油-水体系形成乳液,研究了PSVM胶束浓度、pH、盐浓度等对其乳化性能的影响,并用光学显微镜(OM)表征了其乳液形态。结果表明:通过自由基聚合的方法成功合成了双亲共聚物PSVM,其自组装形成粒径分布均匀的球形胶束;该胶束具有优异的乳化效率,其乳液长期稳定且具有pH响应性及强耐盐性,静置四个月后,乳液仍具有良好的乳化效果且乳液层高度基本不变。  相似文献   
5.
魏玮  刘敬成  李虎  穆启道  刘晓亚 《化学进展》2014,(11):1867-1888
光致抗蚀剂,又称光刻胶,是微电子工业中制作大规模和超大规模集成电路不可或缺的核心材料,因其在国民经济和国防建设中具有战略地位而备受研究者关注。本文梳理了光致抗蚀剂从早期的聚乙烯醇肉桂酸酯、环化橡胶-叠氮化合物、近紫外G线(436-nm)和I线(365-nm)酚醛树脂-重氮萘醌类光致抗蚀剂,到深紫外(248-nm和193-nm)、真空紫外(157-nm)光致抗蚀剂,再到极紫外(13.5-nm)、电子束、纳米压印、嵌段共聚物自组装、扫描探针等下一代光刻技术用光致抗蚀剂的发展脉络,综述了其研究进展。重点对深紫外化学增幅型光致抗蚀剂体系进行了总结,包括主体成膜树脂、光产酸剂以及溶解抑制剂、碱性化合物等添加剂,并介绍了下一代光刻技术用光致抗蚀剂的最新研究成果。最后对光致抗蚀剂未来的发展前景和方向进行了展望。  相似文献   
6.
近几年,由于光触发自修复聚合物具有可控快速等优势,其在自修复聚合物领域中占据了重要的地位。光触发自修复聚合物实现自修复的方法主要分为3类,分别是基于光交联反应的自修复、基于光触发交换反应的自修复和基于光热效应的自修复。本文主要从光触发自修复聚合物的修复机制以及修复过程中涉及的化学本质两个方面,重点阐述了上述3类光触发自修复方法的最新研究进展,强调3种光触发自修复之间的联系和共同点。同时,对光触发自修复聚合物未来的发展前景进行了展望。  相似文献   
7.
以香豆素二硫化物(C-S-S-C)/三丁基膦复合体系为链转移剂、甲基丙烯酸-N,N-二甲氨基乙酯(DMAEMA)为单体、偶氮二异丁腈(AIBN)为引发剂制备了末端为香豆素光响应基元的双亲性遥爪聚合物(C-PDMAEMA).用FTIR,GPC,1H NMR等对该聚合物进行了结构表征.研究表明该遥爪聚合物可直接在水中形成纳...  相似文献   
8.
双亲性无规共聚物P(VM-co-AMPS)的自组装及其性能   总被引:1,自引:0,他引:1  
以2-丙烯酰胺基-2-甲基丙磺酸(AMPS)和苯乙烯类光敏单体7-(4-乙烯基苄氧基)-4-甲基香豆素(VM)为共聚单体,采用自由基聚合法制备了光敏性双亲共聚物P(VM-co-AMPS)。P(VM-co-AMPS)在溶剂水中自组装胶束化,用原子力显微镜(AFM)表征了自组装胶体粒子的形态、粒径及其分布。紫外光照使胶体粒子中香豆素基元发生光二聚反应,用紫外-可见光分光光度计(UV-Vis)跟踪其光二聚交联过程,用光学显微镜考察了胶体粒子的乳化性能。结果表明:胶体粒子具有较好的紫外吸收性能和较好的乳化性能。该胶束制备工艺简单,条件温和,避免了溶剂的使用。  相似文献   
9.
通过Mannich反应在7-羟基-4-甲基香豆素的8-位上引入具有pH响应性能的4-甲基哌嗪的供电子哌嗪基团, 得到水溶性香豆素衍生物, 7-羟基-4-甲基-8-(4'-甲基哌嗪-1'-基)-亚甲基香豆素(HMPC), 利用哌嗪环上的叔胺给电子体系对酸碱的敏感特性调节HMPC的光二聚反应特征. 详细考察该香豆素衍生物在不同pH水溶液中的紫外光二聚性能, 紫外光谱分析显示, 通过调节HMPC水溶液的酸碱性可有效改变其紫外特征吸收; 在波长大于310 nm的紫外光照射下, 衍生物上的香豆素单元可进行光二聚, 并且紫外点光源光二聚反应实验表明, 其在中性水溶液中的反应速度最快, 其次为碱性条件中的反应, 最慢的则是酸性条件中的反应.  相似文献   
10.
光敏感双亲性梳状SMA聚合物的合成及其胶束化   总被引:1,自引:0,他引:1  
以含香豆素型苯乙烯类光敏单体(coumarin-containing styrene monomer, CS)与苯乙烯(St)、马来酸酐(MA)为反应单体, 以偶氮二异丁腈(AIBN)为引发剂制备了光敏感三元苯乙烯-马来酸酐共聚物(SMA)双亲交替聚合物P(St/CS-alt-MA), 再利用羧酸酐基元与正辛胺的室温胺解反应获得光敏感双亲性梳状聚合物P(St/CS-alt-MAA8). 用傅立叶变换红外光谱(FTIR)、凝胶渗透色谱(GPC)、1H核磁共振(1H-NMR)等对该双亲梳状聚合物进行结构表征. 通过香豆素基元的光二聚作用, 使梳状聚合物溶解在DMSO中进行光照预交联; 非交联与预交联聚合物分别在选择性溶剂中自组装形成胶束; 利用羧酸基元与NaOH的离子化作用改变聚合物胶束的亲疏水性质. 动态激光光散射(DLS)与芘荧光探针实验表明预交联聚合物胶束较非交联胶束粒径大, 负载芘的能力强; 离子化作用使聚合物胶束解离重组成粒径更小的胶束, 但预交联胶束较非交联胶束小, 离子化后胶束疏水微区更加紧密, 负载芘的能力也增大.  相似文献   
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