钯合金膜分离器级串氢同位素分离

钯合金膜分离氢同位素是基于氕、氘、氚在钯中的溶解度、扩散系数和表面反应动力学特征的差异而进行的。与目前聚变堆燃料循环中广泛采用的低温精馏方法相比，钯合金膜分离方法的原料是气态，而且在分离过程中氢同位素气体以原子形态存在，具有原料滞留量小，装置设计简单等优点。然而对于钯合金膜来说，单位面积上透过的气体体积有限，在保持钯合金膜氢同位素选择性透过能力的前提下，在一定反应器规模下尽可能的增大钯合金膜的面积，从而提高钯合金膜分离氢同位素的能力就成了钯合金膜大规模应用时要解决的首要问题。在前期实验工作的基础上设计了钯合金膜分离器，但是单级分离器的氢同位素分离能力是有限的。为实现H2/T2混合气体的完全分离，可以将多级钯合金膜分离器以一定方式串接起来，构成一个具有连续分离特性的氢同位素分离系统。     

LaCl3-FuH-H2O三元体系50℃相平衡及［La(H2O)3(FuH)4］Cl3·4H2O的合成与表征

氟脲嘧啶（Ｆｌｕｏｒｏｕｒａｃｉｌ,ＦｕＨ）是常用代谢类抗癌药,但毒性稍大。某些希土化合物能通过干扰癌细胞遗传基因达到抗癌作用,且毒性很低。希土与ＦｕＨ的配合物中希土离子与配体产生协同作用,使配合物具有更好的选择性,并且毒性低而药效强［１］。因此研究希土化合物与ＦｕＨ的配合物有现实意义。曾研究过的有关配合物有：过渡元素ＦｕＨ［２］、Ｐｒ３＋ＦｕＨ［３］、Ｎｄ３＋ＦｕＨ［４］、希土邻菲罗啉ＦｕＨ［５］。除过渡元素外,其他均在非水溶剂中,在水溶液中合成Ｌａ３＋ＦｕＨ配合物未见报道。采用高…     

关于可数生成模的投射分解

设R为带单位元的结合环,对于任一可数生成的R——模V,以及V的可数生成的投射分解:…→P_2→P_1→P_0→V→0,必有R的某可数子环S,以及可数(i=0,1,2,…)使得作为S-模…→M_2→M_1→M_0→U→0是U的投射分解,并且S与U分别能从R和V中继承许多良好的性质。     

追本溯源：2022年全国新高考Ⅱ卷第12题的解法研究

以2022年全国新高考Ⅱ卷第12题为不等式原型,从教材出发多角度审视试题,通过分析试题可以寻求多种解题方法,并一题多解.本题的解法中体现了数学学科知识的综合应用,以此提升学生的数学运算能力和逻辑推理能力.     

氕和氘在Pd-8％Y合金管中的渗透性能

20世纪80年代，Wileman等提出了用钯合金膜分离氢同位素的设想。罗德礼等对一系列钯合金膜的氢同位素分离效应进行了研究，进一步证实了钯合金膜用于氢同位素分离的可行性。钯钇合金膜与其它合金膜相比，具有更好的氢同位素分离能力，采用PdY的原子数分数8％合金管作为分离膜，设计了钯合金膜分离器，初步的实验结果和理论估算表明该分离器完全适合大规模应用的需要。     

钟罩式硅烷反应器内流动与传热的数值模拟

针对硅烷热分解生产多晶硅的过程,建立了基于动量、质量、能量同时传递并耦合硅烷热分解反应的硅烷-氢气化学气相沉积模型,采用计算流体力学方法分析了传统钟罩式硅烷反应器内的流场、温度场和浓度场.针对普通反应器内存在的死区以及沉积速率不均匀的问题,提出了新型的带出气筒的反应器结构,并对结构进行了数值模拟.计算结果表明,与普通钟罩式硅烷反应器相比,新型反应器的流场、温度场以及硅烷浓度分布更加合理,有效减小了反应器内的漩涡,缓解了气体在进出口间的“短路”现象,使硅棒表面的沉积速率更加均匀.     

硅烷热分解生产多晶硅的三维模拟

本文建立了硅烷和氢气体系中气体动量、热量和质量同时传递,并且耦合硅烷热分解反应的多晶硅气相沉积模型,选择适宜的物理模型和边界条件通过流体力学软件Fluent 6.3.26进行数值模拟.之后模拟了进气组成、反应温度、反应压力及进口速度等因素对沉积特性的影响,得到结论:当进气组成、反应温度和反应压力增大时,硅的沉积速率增大、单位能耗降低;当进气速度增大时,硅的沉积速率和单位能耗均呈增大趋势;在进口区域硅沉积速率随着硅棒延伸增大,在离进口较远的区域,硅沉积速率随着硅棒延伸而减小.     

三氯氢硅和氢气系统的气相沉积三维模拟

建立了氢气和三氯氢硅系统的多晶硅气相沉积反应模型,通过Chemkin4.0耦合气相反应、表面反应机理,利用流体力学软件Fluent 6.3.26数值求解.根据模拟结果绘制了进气温度、进气组成、沉积表面温度以及反应压力与硅沉积速率的关系曲线,阐述了这些条件对于硅沉积速率的影响,同时把模拟结果与文献中的实验数据和计算结果进行对比.结果表明,硅沉积速率随反应温度和反应压力的提高而提高,随进气温度的提高而提高,当氢气摩尔组成低于0.8时,与氢气物质的量组成成正比,氢气物质的量组成大于0.8时,与氢气摩尔组成成反比.