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物理学   2篇
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  1997年   1篇
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高氢稀释制备微晶硅薄膜微结构的研究   总被引:11,自引:2,他引:9       下载免费PDF全文
采用高氢稀硅烷热丝化学气相沉积方法制备氢化微晶硅薄膜.其结构特征用Raman谱,红外透射谱,小角X射线散射等来表征.结果表明微晶硅的大小及在薄膜中的晶态比χc随氢稀释度的提高而增加.而从红外谱计算得到氢含量则随氢稀释度的增加而减少.小角X射线散射结果表明薄膜致密度随氢稀释度的增加而增加.结合红外谱和小角X射线散射的结果讨论与比较了不同相结构下硅网络中H的键合状态.认为随着晶化的发生和晶化程度的提高H逐渐移向晶粒表面,在硅薄膜中H的存在形式从以SiH为主向SiH2 关键词:  相似文献   
2.
热丝法制备纳米晶硅薄膜结构及沉积机制的研究   总被引:4,自引:0,他引:4       下载免费PDF全文
用热丝法制备了纳米晶硅薄膜.通过Raman散射谱及X射线谱,系统地研究了沉积气压Pg、高H2稀释及衬底与钨丝之间距离对沉积速率、纳米硅薄膜的形成和结构等的影响.计算了沉积过程中的温度场分布.讨论了沉积过程中反应基元的输运和相关的气相反应,以及H在薄膜生长中的作用,由此分析了沉积参量对薄膜结构的影响,得到了与实验相一致的结果. 关键词:  相似文献   
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