Y掺杂Al2O3高k栅介质薄膜的制备及性能研究

利用射频反应共溅射方法制备了Y掺杂Al₂O₃电介质薄膜，用掠入射x射线衍射检测了薄膜的结构，用高分辨率扫描电子显微镜(HRSEM)、原子力显微镜(AFM)观察了薄膜断面和表面形貌，用高频C-V和变频C-V及J-V测量了样品的电学特性. 结果表明，Y的掺入使电介质薄膜的介电常数k有了很大提高(8.14—11.8)，并体现出了较好的介电特性. 分析认为：与氧具有较大电负性差的Y离子的加入，增大了薄膜中的金属—氧键(M—O)的强度；同时，Y的加入使Al₂O₃的结构和原子配位发生了改变，从而提高了离子极化对薄膜介电常数的贡献. 退火前后的XRD谱均显示薄膜为非晶态；HRSEM断面和AFM形貌像显示所制备的薄膜非常平整，能够满足器件要求. 关键词： 高k栅介质 掺杂氧化铝 射频反应溅射     

闪烁体Y_2SiO_5:Ce的发光特性

Y_2SiO_5:Ce~(3+)(YSO:Ce)具有高密度、不吸潮以及良好的光输出和快速衰减的特性,是一种重要的闪烁材料。研究采用高温固相法制备Y_2SiO_5:Ce~(3+)+0.2%(YSO:Ce)。在低温及室温下,对闪烁体YSO:Ce的时间分辨发射光谱、激发光谱以及衰减曲线进行了测量和分析。YSO:Ce主要有两类发射,一是晶体的缺陷发射,发射中心在320 nm;二是掺杂的Ce~(3+)的5d→4f发射,发射中心在440 nm。只有当激发能量(E_x)大于材料带隙宽度(E_g)时才能够激发出晶体缺陷发射,对应慢速的激发发射过程,且低温时发射强度较大,当温度升高时有温度猝灭,在室温下时间分辨发射光谱中几乎观察不到晶体缺陷发射。对于发射中心位于440 nm Ce~(3+)的5d→4f能级发射,在60~300 nm范围内能够观察到多个激发峰,其中能量小于材料禁带宽度的激发是属于Ce~(3+)5d能级的直接激发带,对应快速的激发发射过程。在低温时能够观测到发光中心位于392和426 nm分立的发射峰,对应Ce~(3+)的5d→4f(~2F_(5/2),~2F_(7/2))的发射。当温度升高到室温时,光谱宽化,无法观测到分立的发射峰。在温度200和300 K时,当激发光的能量大于带隙宽度,衰减曲线有明显的上升沿,说明有能量传递给Ce~(3+)。     

Effect of film thickness manganite-based on interfacial barrier of heterojunctions

Interracial barrier is a key factor that determines the performances of heterojunctions. In this work, we study the effect of manganite film thickness on the effective interracial barrier for La0.67Sr0.33MnO3/Nb：SrTiO3 junctions, The barrier is extracted from the forward current-voltage characteristics. Our results demonstrate that the barrier decreases gradually from -0.85 eV to -0.60 eV when the film thickness decreases from 150 nm to 2 nm. The overall value of the barrier is only about 50% of the corresponding one determined from the photovoltaic effect.     

烟幕干扰的建模与仿真

阐述了舰用遮蔽式烟幕干扰的工作机理,对典型舰用遮蔽式烟幕干扰进行了数学模拟仿真,建立了舰艇、烟幕、导弹的数学模型,提出了干扰评估准则,给出了仿真流程图.并对多次仿真结果进行了统计分析,获得了烟幕弹战斗使用的一般规律.     

Y掺杂Al2O3高k栅介质薄膜的制备及性能研究

利用射频反应共溅射方法制备了Y掺杂Al2O3电介质薄膜,用掠入射x射线衍射检测了薄膜的结构,用高分辨率扫描电子显微镜(HRSEM)、原子力显微镜(AFM)观察了薄膜断面和表面形貌,用高频C-V和变频C-V及J-V测量了样品的电学特性.结果表明,Y的掺入使电介质薄膜的介电常数k有了很大提高(8.14-11.8),并体现出了较好的介电特性.分析认为:与氧具有较大电负性差的Y离子的加入,增大了薄膜中的金属-氧键(M-O)的强度;同时,Y的加入使Al2O3的结构和原子配位发生了改变,从而提高了离子极化对薄膜介电常数的贡献.退火前后的XRD谱均显示薄膜为非晶态;HRSEM断面和AFM形貌像显示所制备的薄膜非常平整,能够满足器件要求.     

Effect of film thickness on interfacial barrier of manganite-based heterojunctions

Interfacial barrier is a key factor that determines the performances of heterojunctions.In this work,we study the effect of manganite film thickness on the effective interfacial barrier for La 0.67 Sr 0.33 MnO 3 /Nb:SrTiO 3 junctions.The barrier is extracted from the forward current-voltage characteristics.Our results demonstrate that the barrier decreases gradually from ～0.85 eV to ～0.60 eV when the film thickness decreases from 150 nm to 2 nm.The overall value of the barrier is only about 50% of the corresponding one determined from the photovoltaic effect.