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1.
激光直写邻近效应的校正   总被引:12,自引:1,他引:11  
邻近效应是限制光刻系统分辨力的一个重要因素,它也限制了激光直写在亚微米和亚半微米光刻中的应用。分析了激光直写邻近效应产生的原因,指出它和电子束直写及投影光刻的区别,提出了一种简便有效的邻近校正方法。实验表明,通过光学邻近校正(OPC),利用微米级激光直写系统,制作出了0.6μm的实用光刻线条  相似文献   
2.
激光直写邻近疗效应的校正   总被引:3,自引:0,他引:3  
杜惊雷  邱传凯 《光学学报》1999,19(7):53-957
邻近效应是限制光刻系统分辨力的一个重要因素,它也限制了激光直写在亚微米和亚半微微米光刻中的应用,分析了激光直写邻近效应产生的原因,指出它和电子束直写及投影光刻的区别,提出了一种简便有效的邻近校正方法,实验表明,通过光学邻近校正(OPC),利用微米级激光直写系统,制作出0.6μm的实用光刻线条。  相似文献   
3.
研制了一种基于自组装技术的静电驱动微机电系统(MEMS)倾斜镜,并利用表面硅工艺PolyMUMPs制备了样品。倾斜镜主要由一个中心镜面,两个偏转梁和两个可实现自组装的复合悬臂梁组成。中心镜面离衬底的高度可通过增大金和多晶硅复合悬臂梁的残余应力梯度得到提升。热退火技术被用于提高金层的残余应力。器件结构利用有限元仿真软件进行了优化并通过实验进行了验证。经过200 ℃热退火后,倾斜镜的偏转角度可以达到3.6。该倾斜镜可运用于微光机电系统。  相似文献   
4.
衍射光学二维激光扫描器设计制作研究   总被引:2,自引:0,他引:2  
提出、设计并采用激光直写和反应离子刻蚀技术制作出一种新型的衍射光学纯相位型二维激光扫描器,并进行了系统参数的实验测试,其扫描角度为25°×25°,衍射效率为41%。  相似文献   
5.
研制了一种基于自组装技术的静电驱动微机电系统(MEMS)倾斜镜,并利用表面硅工艺PolyMUMPs制备了样品。倾斜镜主要由一个中心镜面,两个偏转梁和两个可实现自组装的复合悬臂梁组成。中心镜面离衬底的高度可通过增大金和多晶硅复合悬臂梁的残余应力梯度得到提升。热退火技术被用于提高金层的残余应力。器件结构利用有限元仿真软件进行了优化并通过实验进行了验证。经过200℃热退火后,倾斜镜的偏转角度可以达到3.6°。该倾斜镜可运用于微光机电系统。  相似文献   
6.
衍射微透镜列阵的研究与应用   总被引:2,自引:1,他引:1  
本文研究了衍射微透镜列阵的设计与制作工艺方法,在此基础上研制出一系列衍射微透镜列阵,衍射效率均大于85%,在深紫外、可见及红外波前传感器中得到了成功应用。  相似文献   
7.
本文对红外光学材料锗的蚀刻性能、机制进行了深入的研究,在反应离子蚀刻(RIE)实验基础上,建立了锗材料蚀刻性能与RIE工艺参量的关系,经过大量的实验,找到了稳定蚀刻速率的方法和条件,为用RIE技术形成高精度衍射微光学元件积累了实用经验.  相似文献   
8.
消色差谐衍射微透镜列阵的应用研究   总被引:7,自引:3,他引:4  
本文研究菲涅耳谐衍射透镜的特性和工作条件,分析二元谐衍射透镜的衍射效率及制作要求,设计并研制了用于萨克-哈特曼波前传感器的双波长共焦谐衍射微透镜列阵,得到了良好的应用效果.  相似文献   
9.
RIE精确传递微光学三维结构于红外材料的方法   总被引:1,自引:0,他引:1  
邱传凯  杜春雷 《光子学报》1999,28(9):849-852
本文对红外光学材料锗的蚀刻性能、机制进行了深入的研究,在反应离子蚀刻(RIE)实验基础上,建立了锗材料蚀刻性能与RIE工艺参量的关系,经过大量的实验,找到了稳定蚀刻速率的方法和条件,为用RIE技术形成高精度衍射微光学元件积累了实用经验.  相似文献   
10.
微透镜列阵提高红外探测器探测能力的方法研究   总被引:3,自引:1,他引:2  
研究用微光学方法提高红外探测器探测能力的机理,通过实验将锗微透镜列阵耦合到180元HgCdTe焦平面红外探测器上,使耦合组件探测率提高到原来的2.8倍,提出的光学耦合效应概念为客观评价微光学聚能元件综合质量及耦合机构性能提供了一种新的方法。还对微透镜列阵的冷屏效应进行了讨论。  相似文献   
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