热舟蒸发LaF3薄膜的紫外性能研究

研究了沉积温度对热舟蒸发氟化镧薄膜结构和光学性能的影响，沉积温度从200℃上升到350℃，间隔为50℃.采用分光光度计测量了样品的透射率和反射率光谱曲线，并在此基础上进行了光学损耗、光学常数以及带隙和截止波长的计算.采用表面轮廓仪进行了表面形貌和表面粗糙度的标定，采用X射线衍射(XRD)方法测量了不同沉积温度下样品的微结构.发现在短波长波段，随着沉积温度的升高，光学损耗增加，晶粒尺寸增大，表面粗糙度略有增加.不过散射损耗在光学损耗中所占比例均很小，光学损耗的增加主要由吸收损耗引起.随着沉积温度的升高，折射 关键词： 光学薄膜 沉积温度 3')" href="#">LaF₃ 光学损耗     

Bending of uniformly loaded rectangular plates with two adjacent edges clamped, one edge simply supported and the other edge free

ＩｎｔｒｏｄｕｃｔｉｏｎＤｕｒｉｎｇｔｈｅｌａｔｅｓｅｖｅｎｔｉｅｓ,ＺｈａｎｇＦｕｆａｎｏｂｔａｉｎｅｄｔｈｅｅｘａｃｔｓｏｌｕｔｉｏｎｓｔｏｔｈｅｂｅｎｄｉｎｇｐｒｏｂｌｅｍｏｆｒｅｃｔａｎｇｕｌａｒｃａｎｔｉｌｅｖｅｒｐｌａｔｅｓａｎｄｒｅｃｔ...     

弱吸收基底上弱吸收薄膜的光学常数计算方法

采用一种相对简单而又精确的光度法来计算弱吸收基底上弱吸收薄膜的光学常数,为低损耗紫外薄膜的设计与实现提供了理论基础。采用JGS1型熔融石英基底,制备了MgF2与LaF3材料的单层膜,获得了JGS1型熔融石英基底及MgF2与LaF3薄膜的光学常数色散曲线。结果显示:在200 nm左右处,JGS1型熔融石英基底的吸收已经比较明显,消光系数在10-8量级,因此,应考虑基底的弱吸收,以提高薄膜光学常数的计算精度。     

热舟蒸发LaF3薄膜的紫外性能研究

研究了沉积温度对热舟蒸发氟化镧薄膜结构和光学性能的影响,沉积温度从200℃上升到350℃.间隔为50℃.采用分光光度计测量了样品的透射率和反射率光谱曲线,并在此基础上进行了光学损耗、光学常数以及带隙和截止波长的计算.采用表面轮廓仪进行了表面形貌和表面粗糙度的标定,采用X射线衍射(XRD)方法测量了不同沉积温度下样品的微结构.发现在短波长波段,随着沉积温度的升高,光学损耗增加,晶粒尺寸增大,表面粗糙度略有增加.不过散射损耗在光学损耗中所占比例均很小,光学损耗的增加主要由吸收损耗引起.随着沉积温度的升高,折射率与消光系数增大,带隙变小,相对应的截止波长向长波方向移动.     

均布载荷下两邻边固定、一边简支、一边自由的矩形板的弯曲

用广义简支边概念和叠加法给出的均布载荷下两邻边固定、一边简支、一边自由矩形板的精确解。对正方形自由的挠度和回定边的弯矩进行了数学计算。     

沉积温度对热舟蒸发MgF2薄膜性能的影响

 采用热舟蒸发方法沉积了氟化镁(MgF₂)材料的单层膜，沉积温度从200 ℃上升到350 ℃，间隔为50 ℃。测量了样品的透射率和反射率光谱曲线，进行了表面粗糙度的标定，并在此基础上进行了光学损耗及散射损耗的计算。同时对355 nm波长处的激光诱导损伤阈值进行了测量。结果表明:随着沉积温度的升高，光学损耗增加;在短波长范围散射损耗在光学损耗中所占比例很小，光学损耗的增加主要由吸收损耗引起；在355 nm波长处的损伤阈值变化与吸收损耗的变化趋势相关，损伤机制主要是吸收起主导作用。样品的微缺陷密度也是影响损伤阈值的一个重要因素，损伤阈值随缺陷密度的增加而降低。