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1.
在射线强度测量中,积分电离室输出的电流信号在10–10~10–15 A范围内,该弱电流信号需要转换和放大才可以进行采集。针对积分电离室本文设计了一种弱电流信号放大系统,采用交流调制技术将待测弱直流电流信号调制为交流电压信号,再经放大、相敏检波、滤波等电路处理后得到直流电压信号,最后进行数据采集;同时在系统中引入直流负反馈后缩短了电流测量的响应时间。采用标准电流源测试了系统输入输出线性及响应特性,测试了积分电离室检测氚靶的β射线。测试结果表明:该系统能够有效放大10–14~10–11 A范围内的弱电流信号且有较好的线性和响应时间特性,电流测量灵敏度达到了10–14 A,该系统具有良好的工程应用前景。  相似文献   
2.
靶材料杂质影响新谱线产生的实验验证   总被引:2,自引:2,他引:0  
 为了验证氢气放电源打靶产生的新谱线不是靶杂质的特征谱线,完成了5项检验实验。其中屏蔽实验和强电子辐照靶的实验证实了新谱线不是来自放电室中的杂质形成的;靶的打磨实验表明靶表面的污染杂质也不能产生新谱线,形成共振峰的实验和新谱线强度随放电电压变化规律的实验结果都证明靶的总杂质不影响新谱线的测量。  相似文献   
3.
在用微机多道测量氢气放电中的异常X射线能谱时,需要准确地给出各新谱线峰位的能量值,它由刻度求得的谱仪系统的零点和道数一能量转换系数给出,本文通过实验比较了能量刻度的四种方法:道数一能量关系直线外推法;脉冲幅度一道数关系直线外推法;双能X射线源法;特征X射线法.比较结果说明:用道数一能量直线外推法进行刻度最为准确,当能量大于2.0 keV时,其能量刻度不确定度小于2%.  相似文献   
4.
通过蒙特卡罗模拟和实验测量相结合的方法,获得从50keV~10MeV区间γ射线在直径为30mm内充1.013 25MPa氢气的球形含氢正比计数管上的能量响应,结果显示,γ射线在该计数管中的能量沉积主要集中在100keV附近及以下。Am-Be中子源和137 Cs源的实验测量结果显示,强137 Cs源的γ射线会严重影响含氢正比计数管对Am-Be中子源100keV以下能谱的测量,这表明,裂变材料介质内的强γ射线同样会影响到介质内100keV以下中子能谱的测量。根据计数管对反冲质子和电子电离信号的收集特性,采用上升时间法甄别掉本底γ射线是可行的。  相似文献   
5.
氢气放电源和X光机X射线源打靶谱的研究   总被引:5,自引:0,他引:5  
用氢气放电源打靶的方法,测到了系列的谱线.为了鉴别这些谱线,进行了X光机X射线源打靶实验和两种源打靶的对比实验.实验结果表明:在X光机X射线源打靶谱中,除靶材料的特征X射线和两条源谱线外,还存在两种谱线:一种是能量变化的谱线,根据不同衍射角θ和测量角φ的实验结果,及打多晶体靶和非晶体靶的实验事实,表明这种能量变化的谱线是衍射线;另一种是能量恒定不变的谱线.氢气放电源和X光机X射线源打靶谱的对比实验结果表明:两种源打靶谱自洽.这说明和X光机X射线源打靶谱一样,氢气放电源打靶谱中那些能量变化的谱线是衍射线.但  相似文献   
6.
 在氢气放电源打靶的实验中,测到了系列能量恒定不变的低能X射线新谱线,这些新谱线的能量分别为(1.70±0.10) keV, (2.25±0.07) keV,(2.56±0.08) keV,(3.25±0.10) keV和(3.62±0.11) keV,与Si,Ta,S,Cl,K和Ca等元素的特征X射线能量相近,但靶中所含的杂质或来自放电室的杂质元素可能会产生这些能量的X射线谱峰,证实新谱线是否由这些元素的特征X射线干扰所致显得尤为重要。分析了本实验系统中各种杂质的可能来源,论证了放电室端杂质对新谱线的影响,及靶材料中体杂质和面杂质对新谱线的影响;用X射线光电子能谱仪对靶做了表面分析。研究结果表明:杂质元素的特征X射线不会对氢气放电源打靶产生的新谱线有影响。这些新谱线的性质有待进一步的实验研究。  相似文献   
7.
几类源打“新靶”和“旧靶”的对比实验   总被引:4,自引:4,他引:0       下载免费PDF全文
 根据氢气放电源、X光机X射线源和TiT源打“新靶”和“旧靶”的对比实验结果,证明了在氢气放电过程中产生了一种未知粒子,新谱线正是射线源轰击这种储存在“旧靶”中的未知粒子产生的。以此为依据得到如下推论:探测到的新谱线反映了未知粒子的能级特性,是未知粒子的能级谱线,所以这些新谱线是未知粒子存在的标志。  相似文献   
8.
氢气放电源打靶的较完整新谱系实验测量   总被引:1,自引:2,他引:1       下载免费PDF全文
 为了能够实现明确和清晰地同时测出氢气放电源打靶的较完整新谱系,使用氢气放电中的电子和X射线等直接打靶,在衍射角和测量角均为45°时,测量氢气放电源打靶的较完整新谱系。实验同时测到了3组6条氢气放电源打靶的新谱系,它们是:(2.25±0.07)和(2.56±0.08) keV;(3.25±0.10)和(3.62±0.11) keV;(4.42±0.13)和(4.79±0.15) keV。这6条新谱线表征了未知粒子的能级特性,是未知粒子存在的标志。未知粒子在靶中能储存一年以上,测得的未知粒子能级谱线能量为keV量级,氢气放电源中粒子为已知粒子,据此可以认为未知粒子是一种新原子态氢原子。  相似文献   
9.
通过电子、X射线混合源和X射线源打源照镁靶谱的对比实验,论证了放射源打靶谱的测量中存在着表面效应。它除和电子打靶有关外,也反映了靶表面的一些特性。为此,做了放电源打源照镁靶谱随存放时间变化的实验。实验结果表明:源照镁靶表面可能存在一层阻挡层,阻止新态氢原子向外扩散。根据打磨和未打磨源照镁靶打靶谱的对比实验,推测靶表面的阻挡层可能是一层新态氢原子富集层。为此,又做了镁铼靶打靶谱的对比实验,照射打磨和未打磨镁靶打靶谱的对比实验,根据实验结果,估计新态氢原子富集层可能是一层以氧为核的氢原子和新态氢原子团。由此推测阻挡层是一层以氧为核的新态氢原子团组成的新态氢原子富集层。这种新态氢原子富集层产生了打靶谱测量中的表面效应。  相似文献   
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