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1.
蒋生蕊  赵学应 《光学学报》1995,15(10):467-1470
研究了(Ti,Al)薄膜的光学特性,对其反射和透射光谱作了仔细分析。运用Hadley方程,算出一定成分(Ti,Al)N膜的折射率n,消光系数k随波长的变化关系。又根据透射曲线,计算出了(Ti,Al)N膜的光隙能。  相似文献   
2.
非晶态WO3薄膜电致变色特性的研究   总被引:13,自引:0,他引:13       下载免费PDF全文
采用射频溅射三氧化钨粉末靶的技术,在不同的氧分压条件下沉积得到非晶态WO3电致变色薄膜,分析得知氧分压为1∶10的样品变色性能更好些.采用x射线衍射(XRD),原子力显微镜(AFM),伏安特性曲线和分光光度计分析所制备薄膜的特性.将薄膜在15mol/L的LiClO4的丙稀碳酸脂(PC)溶液进行电化学反应.发现氧分压在1∶10的情况下沉积得到的薄膜呈非晶态,薄膜有较多的孔隙,这有利于Li+的抽取,进而显示出很好的变色性能.x射线光电子能谱(XPS)成分分析表明WO3薄膜在原态中只有W和O两种原子电色反应后 关键词: 三氧化钨薄膜 非晶 射频溅射 电致变色  相似文献   
3.
弹性连续介质中氢致裂纹传播理论   总被引:1,自引:0,他引:1       下载免费PDF全文
弹性连续介质中的氢原子,在裂纹应力场的诱导下发生聚集,形成氢气团,本文计算了气团分布区平均氢浓度,并将该区看作沿裂纹尖端分布的弹性夹杂,确定了夹杂的本征应变,研究了夹杂的应力场Pij对裂纹位错密度的影响,求得了裂纹尖端总的应力强度因子,认为氢脆机理是氢气团增大了裂纹尖端应力强度因子,最后还讨论了氢致开裂的物理过程及氢致裂纹扩展速率,所得结果与实验符合很好。 关键词:  相似文献   
4.
射频溅射微晶NiOxHy膜电致变色性能及其机理研究   总被引:2,自引:2,他引:0       下载免费PDF全文
冯博学  谢亮  王君  蒋生蕊  陈光华 《物理学报》2000,49(10):2066-2071
研究了射频溅射制备的NiOx膜的电致变色性能,发现富氧非理想化学配比的NiO x(x>1)膜具有变色活性,这种膜出现Ni3+和Ni2+的混 合价态,当H注入并占据Ni空位时,导致Ni3+的t2g 能级被填满,Ni3+被阴极还原为Ni2+引起光学透明,即为漂白态; 反之,H+被萃取出NiO 关键词: xHy膜')" href="#">NiOxHy膜 电致变色  相似文献   
5.
射频溅射微晶NiOxHy膜电致变色性能及其机理研究   总被引:2,自引:0,他引:2       下载免费PDF全文
研究了射频溅射制备的NiOx膜的电致变色性能,发现富氧非理想化学配比的NiOx(x>1)膜具有变色活性,这种膜出现Ni3+和Ni2+的混合价态,当H+注入并占据Ni空位时,导致Ni3+的t2g能级被填满,Ni3+被阴极还原为Ni2+引起光学透明,即为漂白态;反之,H+被萃取出NiOx膜,导致Ni2+的t2g能级出现空穴,Ni2+被氧化为Ni3+引起光吸收,则为着色态.  相似文献   
6.
蒋生蕊  彭栋梁 《中国物理》1993,2(6):464-469
Transparent and conductive CdIn2O4(CIO) thin films were prepared successfully by rf reactive sputtering from a Cd-In alloy target in an Ar+O2 atmosphere. The measurement of transmission and reflection spectra, at wavelengths between 0.2 and 6.0μm, and photoluminescence spectrum of the films are reported. The optical properties of the films are analyzed and discussed in detail. Two reasonable methods for calculating the effective mass of the free carrier in the films are presented.  相似文献   
7.
彭栋梁  蒋生蕊 《物理学报》1992,41(12):2055-2060
在Ar+O2混合气氛中射频反应性溅射Cd-Sn合金靶制备了透明导电Cd2SnO4(简称CTO)薄膜。用X射线衍射测量了CTO膜的结构。实验结果表明,这种薄膜的电学和光学性质依赖于混合气体中的氧浓度、衬底温度以及沉积后的热处理。获得的CTO膜最低电阻率为1.74×10-6Ω·cm,可见光光谱区最高透射率为95%。对于氧浓度为6%、衬底温度为400℃时沉积的CTO膜,经热处理后,其光隙能由热处理前的2.37eV增大为2.6 关键词:  相似文献   
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