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运用AMPS-1D(Analysis of Microelectronic and Photonic Structures) 程序系统分析了前端接触(铟锡氧化物)的势垒分别对非晶硅和微晶硅太阳电池性能的影响,比较了两种影响的差异并分析了具体原因. 研究表明:与微晶硅相比,非晶硅受铟锡氧化物功函数ΦITO的影响更加显著. 随着ΦITO的增加非晶硅的各项物理性能(如太阳电池效率、填充因子等)得到明显改善,而微晶硅的各项参数虽然也随ΦITO增加而改变,但更容易趋于饱和. 模拟结果显示,在实际的太阳电池装备过程中可根据前端电极的性能来选择合适的p型硅材料.
关键词:
铟锡氧化物
非晶硅
微晶硅
计算机模拟 相似文献
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Preparation and characterization of room-temperature ferromagnetism GaMnN based on ion implantation 总被引:1,自引:0,他引:1
This paper reports the fabrication of GaMnN ferromagnetic semiconductor on GaN substrate by high-dose Mn ion implantation. Both the structural and optical properties for Mn+-implanted GaN material were studied by X-ray diffraction, Raman scattering and photolumi-nescence. The results reveal that the implanted manganese incorporates on Ga site and GaMnN ternary phase is formed in the substrate. The magnetic behavior has been characterized by superconducting quantum interference device. The material shows room-temperature ferromagnet-ism. The temperature-dependent magnetization indicates different mechanism for ferromagnetism in Mn+-implanted GaN. 相似文献
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用动力学Monte Carlo模拟方法研究了GaAs(001)邻晶面的外延生长机制.Ehrlich-Schwoebel势垒对邻晶面外延机制有重要的影响.模拟结果显示,低温下Ehrlich-Schwoebel势垒几乎能完全阻止原子向下一台阶面的迁移,高温下原子已能有效地克服势垒的影响并向下一台阶面迁移.在外延生长初期,原子几乎在台阶面上均匀分布.当表面覆盖度达到一定数量后,台阶成核开始.而由于Ehrlich-Schwoebel势垒的存在,在台阶的上侧台阶面上开始有原子的积累,而如果没有Ehrlich-Schwoebel势垒,台阶上侧台阶面上的原子也能被有效地耗尽.Ehrlich-Schwoebel势垒对邻晶面上的外延生长模式有显著的影响,将明显提高达到台阶生长模式的温度.
关键词:
外延生长模式
动力学Monte Carlo
Ehrlich-Schwoebel势垒 相似文献
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用XRMF分段多项式回归法定量分析铂钯合金 总被引:1,自引:0,他引:1
在X射线荧光分析中,当工体效应严重时,工作曲线变得很复杂,仅用一条曲线来拟合,误差较大,为此,采用的分段的方法,将工作曲线分成四段,逐段拟合,取得了很好的效果。拟合工作曲线时,所使用的铂钯合金标样,由X射线微探针(XRMF)测试。此外,我们还用这种方法,分析了标样薄片中元素分布的均匀性水平。 相似文献
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采用传输矩阵方法分析极化诱导的内建电场对Mn δ掺杂的GaN/AlxGa1-xN量子阱居里温度(TC)的调制作用.通过解薛定谔方程计算出在不同的内建电场条件下半导体量子阱局域态内的基态空穴能级和波函数分布情况,并在此基础上确定量子阱内Mn δ掺杂情况下TC随内建电场的变化趋势,分析了不同量子阱结构引起的内建电场分布变化及其对TC的影响.在耦合双量子阱中通过调节左右阱的不对称性可以得到TC近3倍的增长.
关键词:
GaN
量子阱
内建电场
居里温度 相似文献
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不同氧分压下直流反应溅射ZnO薄膜的结构和光学特性 总被引:1,自引:0,他引:1
在室温,不同氧分压条件下,采用Zn靶直流反应溅射在石英衬底上制备了具有纤锌矿结构(002)择优取向的ZnO薄膜。薄膜的生长速率随氧分压的增大而减小,在20%-30%之间存在一个拐点,在此点之前,溅射产额减小的速率很快,而在此点之后,溅射产额减小的速率减慢了很多,当氧分压在30%以上时,溅射过程中Zn的氧化在靶表面就已经完成。通过单振子模型分析了薄膜的光学特性,采用X射线衍射的方法对薄膜的晶粒尺寸和应力进行分析。研究结果表明在氧分压20%以上时,薄膜在可见光波段具有较好的光学透明性和很高的电阻率。薄膜的光学折射率、晶面间距和内部应力均随着氧分压的增大而增大。并从薄膜生长机理上给出了理论解释。 相似文献
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