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制备工艺对HfO2薄膜抗激光损伤能力的影响   总被引:3,自引:3,他引:0       下载免费PDF全文
采用反应蒸镀法镀制了单层HfO2薄膜,观察了薄膜表面主要的微结构缺陷,研究了基片清洗工艺对薄膜损伤阈值的影响。测量了薄膜沉积前后表面粗糙度变化。结果表明:沉积工艺可以改变粗糙度,并对薄膜抗激光损伤能力有较大的影响。  相似文献   
2.
HfO2/SiO2高反射膜的缺陷及其激光损伤   总被引:14,自引:10,他引:4       下载免费PDF全文
用原子力、Normaski和扫描电子显微镜等分析仪器,对高损伤阈值薄膜常采用HfO2/SiO2薄膜进行了表面显微图象研究,分析了薄膜常见的表面缺陷,如节瘤,孔洞和划痕等。薄膜表面缺陷的激光损伤实验表明,不同缺陷的抗激光损伤能力不大相同。节瘤缺陷最低,约为15J/cm^2,薄膜的损伤阈值主要由其决定,孔洞的激光损伤能力与节瘤相比较高,约为节瘤的2-3倍。节瘤缺陷在低能量密度的激光损伤所形成的孔洞,与镀制过程中形成的孔洞形貌相似,激光再损伤能力也相似。低能量密度的激光把瘤缺陷变为孔洞缺陷是激光预处理提高薄膜损伤阈值的原因之一。  相似文献   
3.
制备工艺对HfO_2薄膜抗激光损伤能力的影响   总被引:2,自引:0,他引:2       下载免费PDF全文
采用反应蒸镀法镀制了单层HiO2薄膜,观察了薄膜表面主要的微结构缺陷, 研究了基片清洗工艺对薄膜损伤阈值的影响。测量了薄膜沉积前后表面粗糙度变化。结果表 明:沉积工艺可以改变粗糙度,并对薄膜抗激光损伤能力有较大的影响。  相似文献   
4.
等离子体辅助沉积HfO_2/SiO_2减反、高反光学薄膜   总被引:2,自引:0,他引:2  
本文报导了用等离子体辅助(Plasma-IAD)沉积技术沉积HfO2/SiO2减反及高反光学薄膜。在波长1064nm处,HfO2/SiO2减反膜透过率大于99.5%,HfO2/SiO2高反膜反射率大于99.5%。  相似文献   
5.
大口径干涉仪系统传递函数校准   总被引:8,自引:4,他引:4       下载免费PDF全文
 波前功率谱密度(PSD)被用于评价ICF激光驱动器光学元件在中频区域的波前误差。目前主要采用大口径相移干涉仪检测ICF光学元件的波前畸变,通过付立叶变换获得波前的PSD分布。相移干涉仪在较高空间频率分量的测量上存在失真效应,因此需对干涉仪的空间频率传递函数进行校准。本文采用位相比较法测量大口径相移干涉仪的系统传递函数。我们采用衍射光学元件的制造工艺,设计、制作了标准的透射和反射位相元件,比较理论计算值与实测PSD值,分别获得了大口径相移干涉仪透射、反射测量模式的系统传递函数。  相似文献   
6.
HfO_2/SiO_2高反射膜的缺陷及其激光损伤   总被引:1,自引:0,他引:1       下载免费PDF全文
用原子力、Normaski和扫描电子显微镜等分析仪器 ,对高损伤阈值薄膜常采用的 Hf O2 /Si O2 薄膜进行了表面显微图象研究 ,分析了薄膜常见的表面缺陷 ,如节瘤 ,孔洞和划痕等。薄膜表面缺陷的激光损伤实验表明 ,不同缺陷的抗激光损伤能力大不相同 ,节瘤缺陷最低 ,约为 1 5 J/ cm2 ,薄膜的损伤阈值主要由其决定 ,孔洞的激光损伤能力与节瘤相比较高 ,约为节瘤的 2~ 3倍。节瘤缺陷在低能量密度的激光损伤所形成的孔洞 ,与镀制过程中形成的孔洞形貌相似 ,激光再损伤能力也相似。低能量密度的激光把节瘤缺陷变为孔洞缺陷是激光预处理提高薄膜损伤阈值的原因之一  相似文献   
7.
大口径光学元件波前功率谱密度检测   总被引:14,自引:3,他引:11  
许乔  顾元元  柴林  李伟 《光学学报》2001,21(3):44-347
波前功率谱密度(PSD)被用于评价惯性约束聚变激光驱动器光学元件在中频区域的波前误差。高功率固体激光装置对大口径光学元件波前质量的要求有别于传统光学系统,要求对波前误差进行较高空间频率的测量。探讨了大口径光学元件波前的高空间分辨率检测技术,采用大口径相移干涉仪作为波前检测仪器,通过傅里叶变换获得波前一维功率谱密度分布。对惯性约束聚变激光驱动器的典型光学元件进行了波前功率谱密度的的检测和分析。  相似文献   
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