全文获取类型
收费全文 | 185篇 |
免费 | 73篇 |
国内免费 | 39篇 |
专业分类
化学 | 89篇 |
晶体学 | 4篇 |
力学 | 13篇 |
综合类 | 1篇 |
数学 | 13篇 |
物理学 | 177篇 |
出版年
2024年 | 2篇 |
2023年 | 4篇 |
2022年 | 20篇 |
2021年 | 18篇 |
2020年 | 6篇 |
2019年 | 14篇 |
2018年 | 13篇 |
2017年 | 15篇 |
2016年 | 14篇 |
2015年 | 16篇 |
2014年 | 30篇 |
2013年 | 13篇 |
2012年 | 8篇 |
2011年 | 9篇 |
2010年 | 7篇 |
2009年 | 6篇 |
2008年 | 7篇 |
2007年 | 13篇 |
2006年 | 9篇 |
2005年 | 4篇 |
2004年 | 10篇 |
2003年 | 4篇 |
2002年 | 2篇 |
2001年 | 8篇 |
2000年 | 7篇 |
1999年 | 3篇 |
1998年 | 6篇 |
1996年 | 4篇 |
1995年 | 5篇 |
1994年 | 7篇 |
1992年 | 2篇 |
1991年 | 4篇 |
1990年 | 1篇 |
1988年 | 1篇 |
1986年 | 1篇 |
1985年 | 1篇 |
1984年 | 2篇 |
1983年 | 1篇 |
排序方式: 共有297条查询结果,搜索用时 15 毫秒
1.
2.
3.
针对BT20钛合金锻件当量孔损伤进行激光沉积修复试验,考察了修复试样的组织和力学特点。修复区与基材之间形成了致密冶金结合,Al,Zr,Mo,V合金元素由锻件基体到激光修复区均匀分布,无宏观偏析,硬度分布从基材到修复区依次提高。热影响区组织是由基材的双态组织过渡到网篮组织;修复区组织为粗大的原始柱状晶,晶粒内为/网篮组织,晶内片层取向随机, 宽0.4~0.5 m。修复过程中发现,激光加工工艺参数选择不当、坡度过大等原因会造成修复区组织形成气孔和熔合不良等缺陷,但是通过优化工艺参数可以获得无缺陷修复试样。修复试样的室温静拉伸结果表明,试样的抗拉强度接近锻件基体强度,但修复件的韧性比锻件稍有提高。 相似文献
4.
6H-SiC衬底片的表面处理 总被引:1,自引:0,他引:1
相比于蓝宝石,6H-SiC是制作GaN高功率器件更有前途的衬底.本文研究了表面处理如研磨、化学机械抛光对6H-SiC衬底表面特性的影响.用显微镜、原子力显微镜、拉曼光谱、卢瑟福背散射谱表征了衬底表面.结果表明经过两步化学机械抛光后提高了表面质量.经第二步化学机械抛光后的衬底具有优异的表面形貌、高透射率和极小的损伤层,其表面粗糙度RMS是0.12nm.在该衬底上用MOCVD方法长出了高质量的GaN外延膜. 相似文献
5.
6.
采用纳米球蚀刻技术在石英衬底上制备了不同高度的金纳米颗粒阵列.通过扫描电子显微镜对其表面形貌进行了观测,表明金纳米颗粒为有序分布的三棱柱结构.通过红外—紫外吸收光谱仪在190—900nm波长范围内对其光吸收特性进行了测量, 并成功观测到了金纳米颗粒表面等离子体振荡效应引起的光吸收峰,结果表明随着金纳米颗粒高度的增加,其吸收峰的位置向短波方向移动(蓝移).同时对金纳米颗粒的光吸收特性进行了基于离散偶极子近似的理论计算,并与实验结果进行了比较.
关键词:
纳米球蚀刻技术
金纳米颗粒
离散偶极子近似 相似文献
7.
在图形化蓝宝石衬底生长低温缓冲层之前,通入少量三甲基镓(TMGa)和大量氨气进行短时间的高温预生长,通过改变TMGa流量制备了4个蓝光LED样品。MOCVD外延生长时使用激光干涉仪实时监测薄膜反射率,外延片使用高分辨率X射线衍射(002)面和(102)面摇摆曲线估算位错密度,并使用光致发光谱表征发光性能,制备成芯片后测试了正向电压和输出光功率。结果表明,高温预生长可促进薄膜的横向外延,使得三维岛状GaN晶粒在较小的薄膜厚度内实现岛间合并,有利于降低位错密度,提高外延薄膜质量,LED芯片的输出光功率的增强幅度达29.1%,而电学性能无恶化迹象;但高温预生长工艺中TMGa的流量应适当控制,过量的TMGa导致GaN晶粒过大,将延长岛间合并时间,降低晶体质量。 相似文献
8.
9.
10.
以α-Al2O3为支撑层, UiO-66为分离层, Co3O4为催化层, 构建了Co3O4/UiO-66@α-Al2O3陶瓷膜.对其形貌结构进行了表征, 并研究了其对挥发性有机物(VOCs)的分离催化性能. 结果表明, 该陶瓷膜对喷涂行业废气中苯与吡啶两种主要成分体现出良好的分离性, 透过侧的气体中吡啶与苯的摩尔浓度比值可由给料侧的1提高至17; 体系中引入臭氧后, 给料侧苯的浓度明显降低, 其去除率可达到89%. 透过侧的吡啶去除率仅为27%, 得到了较大程度的保留, 剩余的吡啶经收集后可进行单独的深度处理. Co3O4/UiO-66@α-Al2O3陶瓷膜在对喷涂行业废气中苯成分高效降解的同时, 能够有效解决喷涂行业废气处理过程中氮氧化物的排放问题, 有望成为喷涂行业废气预处理工艺的理想选择. 相似文献