氨和甲醇团簇中的质子转移反应

应用激光多光子电离质谱和分子束技术研究和氨和甲醇二元团簇,实现观测到两个系列质子化的团簇离子：（ＣＨ３ＯＨ）ｎＨ＾＋和（ＣＨ３ＯＨ）ｎＮＨ４＾＋（１≤ｎ≤１４）,其产生是经过二元团族内的质子转移反应。同时也研究了氘代甲醇ＣＨ３ＯＤ和氨混合团簇,结果表明ＯＤ原子团中的Ｄ转移概率比ＣＨ３原子团中的质子转移概率大几倍。在ＨＦ／ＳＴＯ－３Ｇ和ＭＰ２／６－３１Ｇ＊＊水平上对氨和甲醇二元团簇进行了计算,结果表明与ＣＨ３相比ＯＨ中的质子转移更加容易,因为ＣＨ３中的质子转移过程中要克服高度约１２０ｋＪ／ｍｏｌ的能垒。     

氨和甲醇团簇中的质子转移反应

应用激光多光子电离质谱和分子束技术研究了氨和甲醇二元团簇,实验观测到两个系列质子化的团簇离子: (CH3OH)nH+和(CH3OH)nNH4+(1≤n≤14 ),其产生是经过二元团簇内的质子转移反应。同时也研究了氘代甲醇CH3OD和氨混合团簇,结果表明OD原子团中的D转移概率比CH3原子团中的质子转移概率大几倍。在HF/STO-3G和MP2/6-31G*　*水平上对氨和甲醇二元团簇进行了计算,结果表明与CH3相比OH中的质子转移更加容易,因为CH3中的质子转移过程要克服高度约120 kJ/mol的能垒。     

van der Waals团簇ArHCl的光电离研究

用同步辐射光源和光电离质谱研究了分子束中ArHClvanderWaals（vdW）团簇的光电离过程．测量结果表明，分子束中的ArHCl的浓匠与气源压力近似满足如下关系式：a（ArHCl）％＝179×10-8.首次给出了ArHCl团簇的光电高效率曲线，并测得ArHCl 的出现势为12.52±0.03eV。根据实验测量的HCl和ArHCl的电高能，计算出Ar－HCl 的解高能为022±0.03eV.用Gaussian－94w量化程序计算出解高能约为0.16eV.实验表明当团簇内的Ar电离时，ArHCl 质谱峰强度明显低于预计的强度，是由于体系电离后发生了电荷转移及解离过程．     

（NH3）nH^＋2团簇离子的产生及其结构的从头计算研究

用激光多光子电离ＴＯＦ质谱和分子束技术实验研究了氨团簇,测量到（ＮＨ３）ｎＨ＾＋２类型团簇离子,首镒观测到ｎ〈４的该类团簇离子的存在。用ＧＡＵＳＳＩＡＮ－９４程序计算这种团簇离子的结构,找到一种稳定构型,并与文献报道的有关计算结果进行了比较和讨论。