首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
文章检索
  按 检索   检索词:      
出版年份:   被引次数:   他引次数: 提示:输入*表示无穷大
  收费全文   11篇
  免费   1篇
晶体学   3篇
物理学   9篇
  2019年   1篇
  2017年   2篇
  2016年   2篇
  2013年   1篇
  2012年   1篇
  2008年   1篇
  2006年   2篇
  2005年   1篇
  2002年   1篇
排序方式: 共有12条查询结果,搜索用时 13 毫秒
1.
气体放电等离子体参数的研究实验是近代物理实验教学大纲基本要求的实验,该实验仪器存在很多问题,如放电不稳定,无法准确读取实验数据,复杂的数据处理过程等。对气体放电等离子体参数测量仪进行改造,制备封闭的稳定的放电管,改进测量电路,对仪器外观重新优化设计。从而改善实验测量的精度与准确度,提高实验效率,并能拓展实验内容。  相似文献   
2.
利用Geant4对卢瑟福散射实验进行仿真模拟,改变模拟过程中的相关参数以达到不同实验条件的要求。对模拟过程中收集的数据进行分析得到的结果符合卢瑟福散射关系式。这说明利用计算机模拟卢瑟福散射实验是可行的。本文中的实验对大学物理实验教学的开展有很大的意义。  相似文献   
3.
采用磁控溅射法在硅(111)衬底上制备了C轴高度取向的ZnO薄膜,并研究了退火温度和氧气气氛对ZnO薄膜晶体质量、晶粒度大小和光致发光谱的影响。X射线衍射表明,所有薄膜均为高度C轴择优取向,当退火温度低于900℃时,随着退火温度的升高,薄膜的取向性和结晶度都明显提高。室温下对ZnO薄膜进行了光谱分析,退火后的样品均可观测到明显的紫光发射。在一定的退火温度范围内,还可以观测到明显的紫外双峰。空气中退火的样品,当退火温度达到或高于600℃还可观测到绿光发射。实验结果表明,发光峰强度随退火温度和氧气气氛不同而不同,通过改变退火时的温度和氧气气氛可以改变ZnO薄膜的微结构和发光性质。  相似文献   
4.
采用电子束蒸发沉积成膜工艺在单晶Si(111)衬底上制备出Co,Cu共掺杂的Zn0.85-xCo0.15CuxO(x=0,0.04,0.06)多晶膜。采用X射线衍射(XRD)研究了Co、Cu掺杂对其微结构的影响;室温下测量了Zn0.85-xCo0.15CuxO薄膜的光致发光谱,发现随着Cu掺杂量的增加,样品发光增强,当Cu掺杂x=0.06时,Zn0.85-xCo0.15CuxO薄膜的PL谱中出现了较强的双峰蓝光发射;分析了掺杂含量对其发光性能的影响,并对样品的发光机制进行了探讨,并推断出蓝光峰来源于电子由导带底到锌空位(VZn)能级的跃迁及锌填隙(Zni)能级到价带顶的跃迁。  相似文献   
5.
为了培养学生分析问题和解决问题的能力,我们模拟科研情境,开展研究性实验教学模式改革探索。在此教学过程中,我们鼓励学生通过溶胶凝胶制备实验与紫外-可见吸收光谱仪结构表征实验结合,运用已有实验知识,自主设计、探索并完成水中污染物的降解。学生通过自己收集、分析和处理信息来实际感受和体验知识的产生过程,进而学会学习,并更加富有创造性。  相似文献   
6.
大学物理实验教学对于大学生动手能力的培养和理论知识的运用极其重要,为此实验教学中心通过改革实验教学内容,将仿真实验融入大学物理实验中,采用虚实结合的教学方式,搭建实验信息化网络平台,采用开放的管理模式,为高校人才培养开辟了一种新的有效尝试。  相似文献   
7.
Al2O3衬底上生长ZnO薄膜的结构和光学特性   总被引:4,自引:2,他引:2  
用脉冲激光沉积法在Al2O3(0001)衬底上沉积了ZnO薄膜。衬底温度分别为300℃、400℃、500℃、600℃和700℃。利用X射线衍射(XRD)和光致发光谱(PL)对薄膜的结构和光学性能进行研究。X射线衍射的结果表明在不同温度下生长的ZnO薄膜均具有高度c轴择优取向,衬底温度400℃时,膜的应力较小质量较高。ZnO薄膜有很强的紫外发光峰,紫外发光峰的强度与衬底温度密切相关,并发现当衬底温度从300℃增到400℃时,紫外发射峰出现6nm的蓝移。  相似文献   
8.
利用MEC和LSC耦合的程序研究了EAST天线不同的相位差 对功率谱的影响及对功率沉积位置和电流分布的影响。通过计算发现,随着 的增大,功率谱的结构发生了改变,当 >200°后功率沉积和电流密度分布由原先的向外层移动变为向内层移动; =200°时形成一个离轴最远的驱动电流, =120°、 =260°时分别得到电流强度最小和最大的驱动电流。因此可以通过选取合适的天线相位差 ,实现对低杂波功率沉积和驱动电流剖面的控制。  相似文献   
9.
利用海洋光纤光谱仪将光信号经分光系统和CCD阵列转换为各个波长范围的电信号,用Spectra Suite软件进行分析处理,获得相应的光谱信号曲线。实验结果表明,不同滤光片的透过率曲线不同,分析了滤光片透过的波长范围及其各自的透过率,通过各个滤光片的测试结果,了解各滤光片的应用领域。  相似文献   
10.
不同厚度溅射Ag膜的微结构及光学常数研究   总被引:14,自引:3,他引:11  
用直流溅射法在室温Si基片上制备了4.9nm-189.0nm范围内不同厚度的Ag薄膜,并用X射线衍射及反射式椭偏光谱技术对薄膜的微结构和光学常数进行了测试分析。结构分析表明:制备的Ag膜均呈多晶状态,晶体结构仍为面心立方;随膜厚增加薄膜的平均晶粒心潮6.3nm逐渐增大到14.5nm;薄膜晶格常数均比标准值(0.40862nm)稍小,随膜厚增加,薄膜晶格常数由0.40585nm增大到0.40779nm。250nm-830nm光频范围椭偏光谱测量结果表明:与Johnson的厚Ag膜数据相比,我们制备的Ag薄膜光学折射率n总体上均增大,消光系数k变化复杂;在厚度为4.9nm-83.7nm范围内,实验薄膜的光学常数与Johnson数据差别很大,厚度小于33.3nm的实验薄膜k谱线中出现吸收峰,峰位由460nm红移至690nm处,且其对应的峰宽逐渐宽化;当膜厚达到约189nm时,实验薄膜与Johnson光学常数数据已基本趋于一致。  相似文献   
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号