一种位相板衍射图样的图像处理新方法

本文介绍了在半导体激光光纤和位相板相结合的准直情况下，利用ＣＣＤ探测器测量大尺寸形位误差的原理，并针对位相板衍射图像的特点，提出了一种处理此类衍射图样的图像处理新方法——投影法。同在时间上采用的多次平均的方法相比较，投影法相当于采用了空间上的平均，消除了ＣＣＤ表面保护玻璃形成的干涉条纹的影响，对空气扰动也起到了很好的抑制作用。并且使二维图像处理变为一维计算，大大提高了计算速度     

用于干涉型光纤传感器的相位生成载波解调技术

相位生成载波技术是用于光纤传感器中很重要的一种信号解调方法。简要说明了相位生成载波调制的原理和两种基本的调制方法 ,着重介绍了相位生成载波调制信号的解调方法 ,包括 :零差法、伪外差法和合成外差法 ,并对以上各种方法进行了分析比较。对相位生成载波技术在干涉型光纤传感器中的应用作了详细的介绍。针对现在最有希望用于智能结构的光纤布拉格光栅传感器 ,介绍了相位生成载波技术在这方面的应用。     

表面微观形貌测量及其参数评定的发展趋势

由于表面加工质量的不断提高，对微观形貌测量技术提出了更高的要求。传统触针式轮廓仪测量具有稳定、可靠、测量动态范围大等优点，但会划伤被测表面；而非接触式形貌测量技术克服了接触式测量易划伤表面的缺点，它主要包括光学散射法、各种光探针法、光学显微干涉法以及采用ＳＥＭ、ＳＴＭ、光子隧道显微镜和原子力显微镜（ＡＦＭ）来探测表面微观形貌的方法。各种测量方法均有其优点和局限性。光学测量方法由于受衍射限制，使其横向分辨率很难提高，在测量大斜率及台阶表面时，测量误差很大。而ＡＦＭ被公认为是一种理想的表面微观形貌测量方法。此外，在表面微观形貌评定方面，国际上正积极探索各种三维评定参数以取代原来的二维参数。     

X射线干涉仪实现扫描探针显微镜样板线间距纳米测量

X射线干涉仪以非常稳定的单晶硅晶格作为长度单位 ,可以实现亚纳米精度的微位移测量。提出了将 X射线干涉仪和扫描隧道显微镜结合起来 ,利用单晶硅的晶格尺度测量扫描探针显微镜样板节距的技术方案 ,并进行了实验研究     

在线测量表面粗糙度的共光路激光外差干涉仪

一种新型的、用于在线测量表面粗糙度的激光外差干涉仪已研制完成。该仪器体积小（２５ｃｍ×２０ｃｍ×１０ｃｍ）、抗外界环境干扰能力强。仪器以稳频半导体激光器作为光源。共光路设计,使测量光和参考光沿同一路径入射到被测表面上。计大数和测小数周期相结合的外差信号处理方法,实现了大的动态测量范围和很高的测量分辩率。同时还采用了全反射临界角法进行自动聚焦。该仪器的纵向和横向分辨率分别为０．３９ｎｍ和０．７３μｍ;自动聚焦范围为±０．５ｍｍ,在焦点±２５μｍ范围内,聚焦精度为１μｍ;８０分钟内整机稳定性：３σ＝１．９５ｎｍ。     

LLL型X射线干涉仪中的晶片厚度的最佳选择

要实现Ｘ射线干涉测量,关键是Ｍｏｉｒｅ条纹要有良好的对比度,接收信号要有足够的强度。影响Ｍｏｉｒｅ条纹对比度及信号强度的因素很多,仅对通过优化干涉仪中晶片的尺寸实现Ｍｏｉｒｅ条纹高对比度及信号高强度的方法进行了理论分析。     

X射线干涉测量技术的最新进展

结合Ｘ射线干涉的基本特点，介绍了Ｘ射线干涉仪的几种基本形式。阐述了Ｘ射线干涉测量技术在纳米长度测量、小角度测量、ＳＰＭ的定标以及在其它测量领域内的最新进展，并对Ｘ射线干涉测量技术的发展作了展望。     

同步辐射X射线干涉的实验研究

介绍在北京同步辐射装置上进行的国内首次LLL型X射线干涉实验研究,在X光底片上观察到了Moire干涉条纹,为进一步利用X射线干涉技术实现纳米测量打下了初步基础.     

五角棱镜角度误差对建立大尺寸平面基准的影响

用一准直光束作为基线，通过９０°折转的五角棱镜扫描，建立一个参考基准面在大尺寸测量中是一种行之有效的方法。在理想条件下，五角棱镜的折转角不受入射角的影响。由于有加工误差，光束的折转角将偏离９０°，且入射光线与扫描轴间的角运动也会影响该偏转角。本文分析了五角棱镜角度误差和扫描精度对光束折转角的影响。结果表明，五角棱镜的制造误差和工作状态将引起测量带误差，该误差是一个固定的系统误差，可以通过预先对所用的五角棱镜进行标定，在数据处理中予以修正。实验结果表明，修正后的结果具有很高的精度     

平行度垂直度测量仪中的自动调光控制

依据改变线性ＣＣＤ的积分时间可调节其曝光量的特点，将ＣＣＤ的曝光量即其输出的测量信号控制在某一可调的目标电平上，使得采用线阵ＣＣＤ的平行度垂直度测量仪能够在很大的测量范围内准确测量，而不会出现ＣＣＤ饱和等现象。