有机掺杂溶胶-凝胶法制备pH敏感膜及其光谱响应的研究

使用四甲氧基硅烷（TMOS）和二甲基二甲氧基硅烷（DiMe-DMOS)为共先驱体，采用溶胶－凝胶的有机掺杂，制备对pH具有宽程响应的敏感膜。详细考察了包埋溴酚蓝和溴酚绿的敏感膜对pH的响应值、响应时间、泄漏和可逆性等响应性能指标，并进行了溴酚蓝和溴酚绿在水相与膜内吸收光谱的研究。     

钛基片的化学机械抛光技术研究

采用化学机械抛光（CMP）方法对钛基片进行纳米级平坦化处理,通过系列抛光试验优化抛光液组成和抛光工艺条件后,得到AFM-Ra为0.159 nm的纳米级抛光表面和156.5 nm/min的抛光速率。抛光液的电化学分析结果表明：二氧化硅颗粒和乳酸在钛表面有不同程度的吸附缓蚀作用,氨水和F-的络合、扩散作用能破坏缓蚀膜层,两者的中间平衡状态才能得到最佳抛光效果。抛光后钛表层XPS测试结果显示钛表层经过化学氧化形成疏松氧化层后,再通过磨粒和抛光垫的机械作用去除。     

基于氨光化学响应的有机杂化溶胶-凝胶膜

研究了基于有机杂化硅氧烷的氨光化学传感器；实验通过四甲氧基硅烷（TMOS）和二甲基二甲氧基硅烷（DiMe-DMOS）的缩聚，获得以氨基荧光素（AF）为荧光指示探针，对氨有灵敏荧光响应的溶胶－凝胶敏感膜；实验考察了溶胶先驱体、各种比例杂化硅氧烷在玻璃支撑体上成膜后对体系pH、NH3浓度和响应时间的变化规律，发现DiMe-DMOS含量的变化改变杂化膜的极性，并使得敏感性对NH3有高荧光响应值，而对体系的pH不响应；实验结果表明在pH8.4，0.1mol/L磷酸盐缓冲溶液中，氨质量浓度与其相应的荧光强度在0．5－60mg/L范围内呈良好的线性关系，敏感膜对NH3的95％响应时间为4min，常见的共存物质如氨基酸、胺和金属离子对NH3测定未见有明显的干扰。     

有机钼添加剂对不同基底材料的摩擦学性能研究

在不同温度、载荷和速度条件下,考察非硫磷油溶性有机钼(SPFMo)添加剂对发动机低黏度润滑油(0W-20)在轴承钢、铝合金以及钛合金等五种不同材料表面摩擦学性能的影响. 采用三维共聚焦激光显微镜和扫描电子显微镜(SEM)对不同基底材料磨痕的形貌、磨损体积和元素成分进行测量和分析. 结果表明:在五种材料表面,SPFMo均可明显提高0W-20的减摩抗磨性能. 温度越高,SPFMo的作用效果越明显,除钛合金外四种材料的摩擦系数最高可降低18%~23%;五种材料的摩擦系数和磨损率均随着载荷的升高而升高;随着摩擦速度的升高,五种材料的摩擦系数呈现出不同的变化规律,但磨损率均随摩擦速度的升高而升高. 研究结果可为新型发动机的润滑油选用和设计提供有力的技术支撑和理论参考.      

提拉法制备铜单晶基片的化学机械抛光研究

采用提拉法成功制备出高纯铜(Cu)单晶,最大尺寸为φ15 mm×60 mm.采用化学机械抛光(CMP)方法对Cu单晶基片进行抛光,借助光学显微镜、表面轮廓仪和扫描探针显微镜分析了基片表面形貌、表面粗糙度与表面均匀性,并探讨了抛光压力、表面活性剂和抛光垫对基片表面抛光的影响,结果表明:采用CMP加工后的铜单晶基片表面无宏观划痕、加工均匀性好,基片表面粗糙度Ra为0.921 nm.