固定Ionic liquid/Silica sol/Nafion膜中的联吡啶钌电化学发光行为的研究及应用

制备了Ionic liquid/Silica sol/Nafion-联吡啶钌复合物膜修饰金电极。采用循环伏安(CV)和电致化学发光(ECL)法,考察了联吡啶钌和左氧氟沙星在此修饰电极上的电化学及其发光行为。结果表明,此修饰电极表现出很好的电化学活性和电化学发光响应。基于左氧氟沙星对固定化联吡啶钌在0.1 mol/L磷酸盐缓冲液中的弱电化学发光信号有较强的增敏作用,建立了电化学发光检测盐酸左氧氟沙星的新方法。在最佳实验条件下,左氧氟沙星浓度在1.0×10-7～1.0×10-4mol/L范围内与相对发光强度呈线性关系(r2=0.998 4),检出限(S/N=3)为1.59×10-9mol/L。连续平行测定2.2×10-5mol/L的左氧氟沙星溶液10次,发光强度的相对标准偏差(RSD)为3.6%。对样品进行回收率试验,回收率在95.6%～103.5%之间,RSD(n=5)为3.0%。该方法具有较高的选择性和灵敏度,样品处理简单快速,用于盐酸左氧氟沙星的测定,结果满意。     

η~6-[三(三甲基硅基)苯基硅烷]三羰基铬类化合物的合成及其分子内硅硅键与金属铬之间相互作用的理论研究

采用三(三甲基硅基)苯基硅烷p-R(Me3Si)3SiC6H4与六羰基铬在加热条件下反应,制得了相应的η6-[三(三甲基硅基)苯基硅烷]三羰基铬化合物{η6-[(Me3Si)3SiC6H4R]Cr(CO)3(R=H,p-Me,p-MeO)}.利用核磁共振波谱、红外光谱和元素分析等手段对产物进行了表征,并利用单晶X射线衍射法测定了化合物η6-[(Me3Si)3SiC6H4R]Cr(CO)3(R=H)的分子结构.在此基础上,对其分子内硅硅键与金属铬之间可能的相互作用进行了考察,发现在加热条件下硅硅键不能被分子内过渡金属活化.利用密度泛函理论(DFT)对预测的硅硅键活化过程进行了计算,发现反应可能的中间体、过渡态及最终产物均具有较高能量,导致反应在动力学和热力学上均不可行.这一结果表明,分子内硅硅键被过渡金属活化的现象在η6-苯基金属化合物体系中难以发生.     

基于SHPB实验的砂岩动态破坏过程及应变-损伤演化规律研究

为研究砂岩型铀矿爆破增渗地浸开采过程中赋矿岩层的破坏特征及损伤演化规律, 利用带有应变控制环的SHPB实验系统,对砂岩试样进行控制应变条件下的动态冲击实验,并结合波速测试实验和CT扫描实验,分析研究了砂岩试样的整体破坏过程、裂纹分布及应变-损伤演化规律。实验结果表明:在冲击荷载作用下,当应变值超过0.008 3时,砂岩试样会突然出现明显的整体破坏,整体破坏形式近似双锥形,其破坏模式为剪切-张拉混合破坏;随着应变的增加,裂纹的产生及扩展大致分为无裂纹阶段（0～0.003 3）、微裂纹起裂阶段（0.003 3～0.008 3）、裂纹贯通阶段（0.008 3～0.009 9）3个阶段,且裂纹分布区域主要集中在试样中间外围。分别从宏观、细观两方面建立了应变-损伤之间的定量关系式,损伤变量随应变的增长趋势大致分为两个阶段:平缓发展区（0～0.008 3）和迅速增长区（0.008 3～0.011 5）,损伤变量随应变增加并非简单的线性增加,而是应变值超过应变损伤阈值之后损伤程度急剧增加,应变损伤阈值为0.008 3。     

内标法确定水的O-H弯曲振动模的拉曼散射截面

通过内标法测量了液体水的O-H弯曲振动模对514.5 nm激发光的绝对拉曼散射截面, 由峰高强度比和积分面积比确定该拉曼带的散射截面分别为5.14×10-32 cm2 molecule-1Sr-1和4.51×10-31 cm2 molecule-1Sr-1, 并对实验误差进行了分析。