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1.
PSD性能是评价电子储存环真空室材料及材料表面处理优劣的一个重要指标.对一约1.5m长不锈钢管道真空室进行了镀TiN薄膜处理,并在合肥光源机器研究用光束线(MSB)的PSD实验站上对该真空室在镀TiN薄膜处理前后分别进行了PSD性能测试实验研究.测试研究结果表明,TiN薄膜处理对于减小不锈钢材料PSD有非常明显的作用.  相似文献   
2.
不锈钢管道低温溅射镀TiN薄膜技术   总被引:1,自引:0,他引:1       下载免费PDF全文
 设计了一套适用于加速器细长管道真空室的低温溅射镀TiN薄膜装置。利用该装置,对86 mm×2 000 mm的不锈钢管道真空室进行溅射镀TiN膜实验,并对镀膜实验结果进行分析,得到了适用于加速器管道真空室内壁溅射镀TiN膜的表面处理参数。样品测试结果表明:在压强为80~90 Pa、基体温度为160~180 ℃的镀膜参数下,不锈钢管道内壁获得的TiN薄膜最佳,薄膜沉积速率为0.145 nm/s。镀膜后真空室的二次电子产额明显降低。  相似文献   
3.
直流磁控溅射法在管道内壁镀TiZrV薄膜   总被引:2,自引:0,他引:2       下载免费PDF全文
用氩气作为放电气体,采用直流磁控溅射法,成功地在不锈钢管道内壁获得了TiZrV薄膜。分别利用能量弥散X射线谱和X射线光电子能谱测量薄膜的成分组成,应用扫描电子显微镜和X射线衍射仪对薄膜进行了测试,并对TiZrV的二次电子产额进行了测量。测试结果表明:TiZrV的成分基本保持在Ti原子分数为30%,Zr原子分数为30%,V原子分数为40%左右,位于"低激活温度区"内;薄膜具有无定形的结构,由微小的纳米晶粒组成;加热激活后TiZrV的二次电子产额有所下降,其峰值由2.03降到1.55,低于不锈钢和无氧铜。  相似文献   
4.
By using CdSe/ZnS quantum dots (QDs), we study the effect of cavity quantum electrodynamics on the coupling of the microtoroid cavity. When with whispering gallery (WG) modes, the microtoroid cavity demonstrates high quality factor and small mode volume at visible wavelengths. Accordingly, fiber tapers allow QDs to adhere into the cavity and further permit the control of site-selected coupling. From the luminescence spectra, QDs are modulated effectively by cavity modes, Variable modulations are observed by changing QD coupling conditions. Therefore, based on experimental and theoretical research, strong and tunable Purcell enhancement can be realized by this system.  相似文献   
5.
设计了针对加速器真空室材料样品的二次电子产额测试装置.对测试装置的设计及测试过程进行了详细介绍,并给出了常见真空室材料的二次电子产额测试结果以及不锈钢材料在经过镀TiN薄膜处理前后的测试对比结果,分析了影响二次电子产额的一些因素,为真空室的表面处理提供了依据.  相似文献   
6.
在合肥先进光源(HALF)建设中,由低温超导材料组成的真空部件被大量使用,尤其是超导高频腔。超导腔以高加速梯度、低束流阻抗、高无载品质因数和低运行成本等特点,成为21世纪国际上拟建的大型加速器的首选。而超导腔和低温真空室内表面的二次电子发射可能会引发电子云(EC)现象。超剂量的二次电子倍增功率沉积会引起低温区域热负载增加、超导腔失超等现象,因此降低超导高频腔内二次电子发射成为合肥先进光源设计过程中的巨大挑战。在常温材料二次电子产额(SEY)测试系统的基础上,作者自主研发设计低温样品架结构,使液氦流经样品台并通过热传导冷却样品,计算漏热来反推所需要的制冷量和液氦的消耗速率。在系统集成调试后进行降温性能测试,搭建了低温材料二次电子测试系统。  相似文献   
7.
Fabrication of SiO_2 microdisk optical resonator   总被引:1,自引:0,他引:1  
The silica microdisk optical resonator which exhibits whispering-gallery-type modes with quality factors of 9.67×10~4 is fabricated with photolithographic techniques.Reactive ion beam etching(RIBE)is used to get the silica disks with photoresist masks on SiO_2/Si made by standard ultraviolet(UV)photolithography, and spontaneous silicon etching by XeF_2 is used to fabricate the silicon micropillars.This fabrication process can control the microcavity geometry,leading to high experiment repeatability and controllable cavity modes.These characteristics are important for many applications in which the microcavity is necessary,such as the quantum gate.  相似文献   
8.
PSD性能是评价电子储存环真空室材料及材料表面处理优劣的一个重要指标. 对一约1.5m长不锈钢管道真空室进行了镀TiN薄膜处理, 并在合肥光源机器研究用光束线(MSB)的PSD实验站上对该真空室在镀TiN薄膜处理前后分别进行了PSD性能测试实验研究. 测试研究结果表明, 镀TiN薄膜处理对于减小不锈钢材料PSD有非常明显的作用.  相似文献   
9.
真空室材料二次电子产额特性研究   总被引:2,自引:0,他引:2  
设计了针对加速器真空室材料样品的二次电子产额测试装置. 对测试装置的设计及测试过程进行了详细介绍, 并给出了常见真空室材料的二次电子产额测试结果以及不锈钢材料在经过镀~TiN~薄膜处理前后的测试对比结果, 分析了影响二次电子产额的一些因素, 为真空室的表面处理提供了依据.  相似文献   
10.
马文静  赵壮  王思慧  张善才  范乐  洪远志  尉伟 《强激光与粒子束》2022,34(10):104007-1-104007-7
合肥先进光源(HALF)将建设成为1台第四代衍射极限储存环光源。HALF的引出光具有更高亮度,能给储存环带来更高的热负载。引光段需设置光子吸收器,以限定引出光的尺寸和吸收其余未使用的同步光,同时减少同步光热负载对储存环超高真空系统的影响。紧凑的衍射极限储存环的物理设计及光子吸收器与真空室连接方式的选择给光子吸收器的设计带来了一系列挑战。在插入式双片型吸收器结构的基础上,综合考虑吸收面形状、水冷结构、安装定位等因素,设计了一种基于CuCrZr材料、与真空室一体、无需单独定位的光子吸收器,并计算其位于弯转角2.74°的弯转磁铁下游光引出段处,被同步光照射的光斑尺寸和辐射功率;采用有限元分析方法对光子吸收器进行热力学模拟,得到辐照后的最高温度约为80 ℃,最大应力为20.8 MPa,最大热变形为0.05 mm。结合制作材料CuCrZr在高热负载下的许用准则,确定了光子吸收器结构的合理性。此研究为合肥先进光源中前端区光子吸收器的设计提供了重要的理论依据。  相似文献   
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