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1.
王越  杨向东 《应用数学》2017,30(4):946-952
在允许随机序列上密度无限且减弱权函数是凸函数的条件下,采用新的方法得到C_α中随机指数函数系完备性的充分必要条件,其中C_α是定义在R上的复连续函数构成的加权Banach空间,且要求函数在一致范数下当t→∞时以f(t)exp(-α(t))趋于零.  相似文献   
2.
基于单粒子导心运动代码ORBIT,采用测试粒子模拟方法,研究了托卡马克等离子体内部不同径向位置处局域磁场扰动对高能量离子的损失的影响。研究表明,在局域磁扰动主要分布在某磁面附近、其环向具有类似纹波场形式下,可造成一些靠近等离子体中心区域的高能量离子损失,但对靠近等离子边界的离子损失影响相对不大。这些损失的高能量离子均为捕获离子,离子的投掷角越大就越容易损失。此外,造成高能量离子最大损失率的局域场径向位置与这些损失离子的初始径向位置通常存在一定的偏移,而且这个偏移与这些离子的能量密切相关。当局域场出现在某些位置时,能量较低的离子会有一定的损失,能量较高的离子反而不会损失。  相似文献   
3.
氘核是由一个质子和一个中子组成的弱束缚态。由于中子不带电,因而氘核中的质子和中子间没有库仑相互作用,只有核力。研究氘核的性质对于进一步研究核力的性质具有非常重要的意义,氘核基态波函数对于构造氘核折叠光学模型势具有非常重要的意义。本工作基于氘核基态的相关性质利用数值计算的办法来求解氘核基态波函数。  相似文献   
4.
付娆  方宇  杨勇  向东  吴晓静 《光学学报》2023,(5):198-209
提出了一种利用循环生成对抗网络实现由大视场、低分辨率染色图像生成与之相匹配的高分辨率虚拟染色图像的方法,在完成了对细胞虚拟染色的同时,解决了传统光学显微镜的大视场与高分辨率两个目标无法同时满足的问题。首先,进行了理论验证,通过对选定图像的分辨率分级缩放模拟实际分辨率变化,训练对应的算法模型并与真实图像相比较,结果在主观与客观上均符合设想预期。在完成理论验证的基础上,分别进行了由10倍、4倍低分辨率真实染色图像生成25倍高分辨率虚拟染色图像的实验。通过主观视觉与客观评价指标进行评价,得到结构相似性、峰值信噪比和归一化均方根误差三个指标的具体数据。结果显示,通过循环生成对抗网络生成的虚拟染色图像与真实染色图像间的相似度较高,虚拟生成效果很好。  相似文献   
5.
光电等厚干涉实验仪   总被引:3,自引:0,他引:3  
胡解生  向东  郭萍  管亮 《大学物理》2004,23(10):43-45
应用CCD摄像和数字电子技术,研制了新型光电等厚干涉实验仪,不仅能将等厚干涉图像放大显示在监视器屏幕上,而且还可对图像进行数字化读数测量介绍了该仪器的结构和测量原理,以及使用该仪器做“用牛顿环法测透镜的曲率半径”实验的方法,并评定了测量结果.实验结果表明,该仪器不仅干涉条纹图像显示清晰,便于演示实验,而且操作简单,测量精度较高.  相似文献   
6.
7.
引导磁场下磁性药物靶向治疗的理论分析   总被引:5,自引:0,他引:5       下载免费PDF全文
熊平  郭萍  向东  何继善 《物理学报》2006,55(8):4383-4387
应用电磁场理论,对引导磁场下铁磁性“药物”颗粒在靶向治疗中的受力和运动轨迹进行了分析和研究.得到了磁场、血流和血管壁对铁磁性“药物”颗粒的作用及运动规律.给出了铁磁性“药物”在靶向治疗中可采用的一种新方法——利用体外磁激励装置产生的变化磁场来实现铁磁性“药物”靶向治疗,还给出了采用这种方法实现靶向治疗的条件. 关键词: 磁性药物 靶向治疗 血流动力学 引导磁场  相似文献   
8.
用1m掠入射光栅谱仪测量了入射激光功率密度为3~6TW/cm ̄2时,块状银靶产生的等离子体XUV光谱。对4~11nm波长范围内的谱线进行辨认和分类。  相似文献   
9.
应用固相萃取(SPE)及LC—MS/MS技术,建立了水中痕量大环内酯类抗生素即红霉素、脱水红霉素、罗红霉素的分析方法,优化了固相萃取、液相色谱-质谱/质谱等相关条件。水样经HLB固相萃取柱富集净化,以多反应检测方式(MRM)对待测物进行定性和定量分析。3种抗生素在10-2000ng/L范围内具有良好的线性。其定量下限为5ng/L(S/N〉10)。加标纯水和实际水样的回收率在71%-111%之间,相对标准偏差(RSD)在3.7%-8.6%之间。该方法灵敏度高、选择性好、准确度高,适合实际水样中痕量大环内酯类药物的检测。使用该方法测得珠江广州河段某水样中红霉素、脱水红霉素和罗红霉素质量浓度分别为164、291和134ng/L。  相似文献   
10.
蒋李  向东  杨旺 《人工晶体学报》2017,46(2):204-212
建立了PECVD腔室的连续流体和传热模型,通过仿真实验来分析工艺参数和喷淋板结构对PECVD腔室热流场的影响.在典型工艺的基础上,根据单变量原则设计不同的仿真实验来研究工艺参数对晶圆片上方流速、压力及温度分布的影响,结果显示在不同的工艺参数下,流速分布都能够保持线性分布;温度分布波动很小,表现良好的稳定性;压力随径向近似抛物线分布,中心压力高边缘压力低.另外本文设计了两组仿真实验,研究喷淋板不同的流阻分布对热流场的影响,结果显示喷淋板流阻的分布对流速分布有明显的影响,在不同的流阻分布下,加热盘边缘处的流速保持不变,但是流速分布存在一个拐点,拐点前和拐点后流速都近似于直线分布;结果说明能够通过改变喷淋板流阻的分布来调控晶圆上方流速的分布从而获得更高的薄膜工艺均匀性.  相似文献   
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