一种纳米硅薄膜的传导机制

基于对实验和理论的分析，提出一种异质结量子点隧穿（HQD）模型，并导出了纳米硅薄膜电导率完整的表达式．其主要思想是，纳米硅薄膜中的微晶粒（几个纳米大小）具有量子点特征，在微晶粒与界面之间由于两者能隙的差异构成晶间势垒，这类似于多晶硅中经常使用的晶间势垒模型（GBT）．考虑到量子点中的单电子隧穿特征，认为纳米硅薄膜中的电传导是由微晶粒中电子弹道式输运与单电子越过势垒的隧穿构成的．这就是HQD模型的主要内容，理论结果与实验相符 关键词：     

纳米硅薄膜退火特性

对使用等离子体增强化学汽相沉积(PECVD)法在不同淀积条件下制备的非晶硅(a-Si:H)、微晶硅(μc-Si:H)和纳米硅(nc-Si:H)薄膜在200—600℃温度范围进行常规退火研究。用共振核反应技术测量了样品中氢含量C_H值及退火对氢含量及其分布的影响。通过室温下对暗电导率的测量得到退火对nc-si:H薄膜电导率的影响,并与a-Si:H,μc-Si:H薄膜的退火行为作了比较。使用紫外/可见/近红外分光光度计对样品透射率进行了测量,分析计算得到了退火温度T_a与ac-Si:H薄膜光学带隙E_g~(o 关键词：     

Enhanced single photon emission in silicon carbide with Bull's eye cavities

The authors demonstrate a Bull's eye cavity design that is composed of circular Bragg gratings and micropillar optical cavity in 4H silicon carbide (4H-SiC) for single photon emission. Numerical calculations are used to investigate and optimize the emission rate and directionality of emission. Thanks to the optical mode resonances and Bragg reflections, the radiative decay rates of a dipole embedded in the cavity center is enhanced by 12.8 times as compared to that from a bulk 4H-SiC. In particular, a convergent angular distribution of the emission in far field is simultaneously achieved, which remarkably boost the collection efficiency. The findings of this work provide an alternative architecture to manipulate light—matter interactions for achieving high-efficient SiC single photon sources towards applications in quantum information technologies.     

多孔硅吸附染料分子的荧光增强效应

报道了利用多孔硅独特的表面特性,吸附染料分子后,使得染料的荧光得到很大的增强,并观察到了这种吸附过程中彼此间的能量转移过程。对染料的荧光增强机理及实验结果进行了讨论。     

多孔硅吸附荧光素钠分子产生荧光增强效应

多孔硅表面吸附荧光素钠分子后,由于其表面的独特性质,使得荧光素钠的荧光得到很大的增强,在这种吸附过程中彼此间存在能量转移过程。文中对荧光素钠增强机理及实验结果进行了详细分析讨论。