有机薄膜电致发光器件工艺检测的一种简便方法——覆膜加热观测法

提出了一种简便易行、并与有机薄膜电致发光器件制备工艺完全兼容的工艺检测方法－－覆膜加热观测法。这种方法是在器件的制备工艺过程中,同时在铟锡氧化物（ITO）电极的各层有机薄膜上覆盖一层不透气的薄膜（如金属Al膜等）,接着进行快速加热,最后对器件表面进行形貌观测。采用这种方法,观察了器件表面气泡的形成过程,观察了加热温度、ITO表面处理以及有机物纯度对敢泡形成的影响。实验表明,覆膜加热观测法能有效地对工艺进行对比检测,从而达到改进工艺、提高器件质量的目的。     

电致发光色纯性增强的硅基有机微腔

报道了硅基有机微腔的电致发光（EL）.该微腔由上半透明金属膜、中心有源多层膜和多孔硅分布Bragg反射镜（PS DBR）组成.半透明金属膜由Ag（２０nm）构成，充当发光器件的负电极和微腔的上反射镜.有源多层膜由Al (1 nm) / LiF(05 nm) /Alq3/Alq3:DCJTB/NPB/CuPc/ITO/SiO2组成，其中的Al/LiF为电子注入层，ITO为正电极，SiO2为使正、负电极电隔离的介质层.该PS DBR是采用设备简单、成本低廉且非常省时的电化学腐蚀法用单晶Si来制备的；该PS 关键词： 电化学腐蚀 电致发光 窄峰发射 硅基有机微腔     

有机薄膜电致发光器件失效过程的动态观测及分析

对有机薄膜电致发光器件失效的全过程进行了显微动态观察，发现器件工作时，有机层／金属界面形成的气泡逐渐变大变多，最终导致器件完全失效，气泡不仅含有水汽，还存在大量有机气体。     

有机薄膜电致发光失效过程的多重分形谱研究

用多重分形谱描述了荧光显微镜原位观察到的有机薄膜电致发光的失效过程.实验观察表明：有机层/金属电极界面上气泡的产生是电致发光的失效的原因.多重分形谱的分析显示：随薄膜工作时间愈长或工作电压愈高,分形谱的宽度愈窄,表明气泡的数量逐渐增加并愈加均匀地分布在界面上,这一结果和实验观察完全一致,因此多重分形谱可以很好地描述这种失效过程.     

多孔硅光致发光的温度效应研究

通过对多孔硅光致发光峰随测量温度变化的研究，发现随测量温度的下降，光致发光峰位有两种截然不同的移动方向：发光峰中心波长较长的样品，主峰向低能方向移动(即红移)；而发光峰位波长较短的样品则向高能方向移动(即蓝移).根据多孔硅光致发光峰的温度效应，定性地给出了发光效率随波长变化的模拟曲线，并由此能较好地解释多孔硅光致发光峰位随温度变化而移动的实验现象. 关键词：     

多孔硅的微结构与发光特性研究

利用原子力显微镜（AFM）和光致荧光（PL）光谱对一系列直流腐蚀和脉冲腐蚀的多孔硅的微结构及发光特性进行了对比研究．表面和侧面的AFM结果表明，多孔硅表面呈“小山”状，有许多小的、突出的硅颗粒．在相同的腐蚀条件（等效）下，脉冲腐蚀的样品表面Si颗粒更加尖锐、突出，侧面的线状结构更明显，多孔硅层更厚．对应的PL谱，脉冲腐蚀的样品发光更强．量子限制效应的理论可以比较成功地解释这个结果 关键词：     

紫外激光等选育生淀粉糖化酶高产菌株及其应用

以紫外线、LiCl、5-氟尿嘧啶、HNO2为诱变剂,黑曲霉Sx为出发菌株,选育出生淀粉糖化酶酶活力提高12%的突变株黑曲霉S′x.制取黑曲霉S′x的原生质体,用He-Ne激光照射,经反复筛选得到突变株黑曲霉Sy,其酶活力较出发菌株提高51%,而酸性蛋白酶活力降低45%.并对其在农作物秸杆的应用进行了研究.     

多孔硅的一种新的后处理方法──微波等离子体辅助钝化处理

报道了对多孔硅进行后处理的一种新方法，即真空中微波等离子体辅助的钝化处理．傅里叶变换红外吸收谱表明，经处理的样品表面主要是被SiS_x和SiO_y所覆盖．与未经处理的样品相比，其发光强度增加约3.5倍，PL峰位蓝移了40nm，而且在空气条件下存放60d后发光强度没有变化．表明这种方法是增加多孔硅发光强度和提高稳定性的有效方法之一．     

基于多孔硅分布Bragg反射镜的有机微腔的光学性质

报道了采用多孔硅多层膜作为Bragg反射镜的有机半导体光学微腔.被测样品的光致发光谱半 高宽可由无微腔下的83nm窄化为有微腔时的4nm,非共振模得到有效的抑制.同时共振峰强度 的增强和峰位随出射角增大的“蓝移”等微腔效应也被观测到. 关键词： 微腔 多孔硅 有机半导体