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1.
CrN镀层的微粒磨损性能及其切削行为研究   总被引:1,自引:0,他引:1  
在Teer UDP 550型闭合场非平衡磁控溅射离子镀设备上制备CrN镀层,以球-盘方法测定的比磨损率和微粒磨损法测定的微粒磨损率评价CrN镀层的耐磨性能,采用高速钢镀层钻头的钻孔数评价镀层的切削性能.结果表明,CrN镀层的微粒磨损率对氮流量(用光谱发射因子OEM值控制)的变化很敏感,而比磨损率却不能反映这种由于氮流量变化带来的镀层结构和性能的变化.在不同偏压条件下所制备的镀层微粒磨损率变化不明显.当微粒磨损率低于某一值时,CrN镀层的钻孔寿命明显提高,而比磨损率则无此规律.  相似文献   
2.
在股价和汇率满足随机波动率与跳扩散组合模型下应用半鞅Ito公式、多维随机变量的联合特征函数、Girsanov测度变换以及Fourier反变换等随机分析技巧给出了双币种欧式期权价格的封闭式解,并利用数值实例分析了波动参数对期权价格的影响,结果表明:波动率参数对期权价格有显著的影响作用.  相似文献   
3.
给出3×3矩阵的平方根公式,并通过实例阐明我们的方法,完善了有关文献中的某些结果.  相似文献   
4.
等离子喷涂铁-镍-钴-碳化钨涂层制动摩擦特性的研究   总被引:10,自引:1,他引:9  
重载制动摩擦磨损特性制约着刹车装置的刹车性能及其使用寿命.在MM-1000试验机上,对等离子喷涂Fe-Ni-Co-WC涂层的重载制动摩擦特性进行了试验研究.结果表明:在相同的试验条件下,等离子喷涂涂层分别与石棉摩擦材料和半金属摩擦材料对摩时的摩擦系数均比与基体35CrMo钢对摩时的高,制动时间短,制动效率和耐磨性能都明显提高,制动力矩峰比小,刹车平稳,制动特性好;制动摩擦系数与制动压力、速度和转动惯量等参数密切相关,压力增大,摩擦系数减小,速度和转动惯量增大,石棉材料摩擦副的摩擦系数降低,半金属材料摩擦副的摩擦系数升高,而且半金属材料的摩擦系数的热稳定性比石棉摩擦材料的好  相似文献   
5.
给出3×3矩阵的平方根公式,并通过实例阐明我们的方法,完善了有关文献中的某些结果.  相似文献   
6.
以Ar+10%H2(体积分数)H2及N2为载气,采用射频PCVD技术在40Cr钢表面制备了BN膜,对沉积BN膜进行了FTIR,TEM和SEM等分析,并对不同载气下膜与基体的结合力,膜层残余应力,硬度及耐磨性进行了比较,结果表明,BN膜中,c-BN含量分别为58.1%,27.7%和27.4%,膜厚分别为4.6μm,2.0μm和3.3μm。  相似文献   
7.
气相沉积TiN和Ti(C,N)镀层的热磨损性能   总被引:5,自引:2,他引:3  
气相沉积法制取的TiN和Ti(C,N)镀层在室温工作的磨损部件上得到了广泛的应用,但对其在高温下的磨损性能之研究却还很少。为了探讨其在高温磨损下应用的可行性,利用SRV滑动摩擦磨损试验机和改进型Tittagala热冲击磨损试验机,对以热作模具钢3Cr2W8V为基体的气相沉积的TiN和Ti(C,N)硬质镀层的热磨损性能进行了试验研究,同时还通过多种表面分析手段对膜基体系的失效机制作了观测与讨论,结果表明,TiN和Ti(C,N)镀层都具有良好的高温耐磨性,在850℃以上的高温条件下,几种有镀层试样的热冲击磨损量都明显地比无镀层3Cr2W8V试样的低。SRV高温滑动摩擦磨损试验发现,镀层的高温软化和氧化都不明显;只有当膜基界面结合不良或膜基体系的承载能力不足时,才会发生镀层的剥落或碎裂。  相似文献   
8.
对比研究了钛合金微动疲劳(FF)和微动磨损(FW)失效行为,考察了表面喷丸强化和氮化等表面处理对钛合金微动疲劳和微动磨损性能的影响,探讨了钛合金微动磨损和微动疲劳性能的相关性.结果表明,钛合金微动疲劳和微动磨损损伤表面形貌特征相似;当微动位移幅较大、微动区发生整体滑动时,微动接触区磨损有利于延缓微动疲劳裂纹萌生;而在小位移幅、部分滑移情况下,局部磨损促进微动疲劳裂纹萌生.利用喷丸强化在钛合金表面引入残余压应力,可以在降低摩擦系数的同时,提高钛合金抗微动疲劳和微动磨损失效的能力;氮化处理后钛合金表面硬度提高,有利于改善其微动磨损性能,但表面韧性降低导致抗微动疲劳能力降低.因此,在提高表面硬度的同时,不应忽视表层韧性的降低对钛合金微动疲劳性能的不利影响.  相似文献   
9.
薄膜应力测定的X射线掠射法   总被引:6,自引:0,他引:6       下载免费PDF全文
薄膜应力可用x射线掠射法测量,2θ-sin2φ失去线性时,采用小角掠射,有可能使2θ-sin2φ恢复直线,并由斜率计算应力;2θ-sin2φ维持线性时,依次改变掠射角,可望对内应力沿膜厚分布做出评估。 关键词:  相似文献   
10.
PCVD氮化硼膜形成过程及表面形貌的分析   总被引:1,自引:0,他引:1  
采用红外分析、金相技术及和透射电子显微(TEM)技术分析了射频PCVD法沉积氮化硼膜的形成过程,。结果表明,在沉积过程中,非晶态氮化硼(α-BN)作为领先相首先按平面方式生长,然后立方氮化硼(C-BN)在其上成核,并靠沉只原子表面选 移过程而长大,这种过程交替进行的结果。使膜扩散由α-BN和c-BN组成。膜层的表面呈层状+胞状形貌,说明薄膜的生长不仅取决于固体表面的扩散,而且也也气相成分的扩散有关  相似文献   
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