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1.
射频磁控溅射ZnO薄膜的结构和光学特性   总被引:11,自引:5,他引:6  
采用射频(RF)反应磁控溅射法在n-Si(001)衬底上外延生长ZnO薄膜。XRD谱测量显示出较强的(002)衍射峰,表明ZnO薄膜为c轴择优取向生长的。室温PL谱测量观察到了较强的紫外光发射和深能级发射。  相似文献
2.
退火对ZnO薄膜结构及发光特性的影响   总被引:9,自引:6,他引:3  
生长在蓝宝石C面上的ZnO薄膜是通过等离子体金属有机物化学汽相淀积方法获得的,由其X光衍射得知,生长过程中分段退火和最后退火在薄膜中分别引入了张应力和压应力。通过对样品光致发光光谱研究表明:分段退火样品在380nm附近出现了单一激子发射峰,而最后退火样品却出现了与应变有关的Γ5和Γ6两激子发射峰,同时在两者的光致发光光谱中与深能级有关的荧光峰都未出现。  相似文献
3.
ZnO薄膜的掺杂特性   总被引:8,自引:4,他引:4  
通过MOCVD方法生长的ZnO薄膜一般为富锌生长,呈n型电导,要想得到高阻或低阻p-ZnO薄膜需要对其进行掺杂施主或受主杂质。主要研究在生长过程中通过NH_3对ZnO薄膜进行氮掺杂的情况,利用优化生长条件,即生长温度为610℃,Ar气(携带DEZn)流量为4 sccm,O_2流量为120 sccm,N_2流量为600 sccm,得到在NH_3流量为80 sccm时生长样品的结晶质量最高,在掺杂薄膜中NH_3流量高于或低于80 sccm时,样品的表面形貌都将变差,只有在80 sccm时表面粗糙度最低晶粒最小,表明该流量下获得的样品表面较光滑致密。所以80 sccmNH_3流量为在R面蓝宝石上生长<110>取向ZnO薄膜的最佳掺杂流量。Hall测量结果表明,NH_3流量为50 sccm的样品电导呈弱p型,电阻率为102Ω·cm,空穴载流子浓度为+1.69×10~(16)cm~(-3),迁移率为3.6cm~2·V~(-1)·s~(-1);当NH_3流量增加时样品的电导呈n型,电阻率最高达10~8Ω·cm,我们认为与进入ZnO薄膜的H的量有关,并对其变化机理进行了详细的分析。  相似文献
4.
多孔介质干燥过程传热传质研究   总被引:3,自引:0,他引:3  
一、过程分析及数学模型的建立 多孔介质的干燥过程一般可以分为三个阶段:预热阶段、恒速率干燥阶段和降速率干燥阶段.降速率干燥阶段通常又分为第一、第二降速率干燥阶段. 预热阶段一般很短,对过程影响不大,本文不考虑它的存在,只研究后面几个阶段. 根据本文的研究范围,对问题作如下简化: (1)被干燥材料存宏观结构上是统计均匀的,且在干燥过程中不发生体积变化.  相似文献
5.
等离子MOCVD系统生长ZnO薄膜掺N2和掺NH3特性比较   总被引:3,自引:2,他引:1  
利用MOCVD方法生长了高质量的ZnO薄膜材料,分别通过N2和NH3对c面和R面蓝宝石衬底上生长的ZnO薄膜材料进行了掺杂行为研究.掺N2时,X射线衍射半峰全宽仅为0.148°,室温光荧光发光峰位于3.29eV,半峰全宽~100meV,电阻率由0.65 Ω·cm增大到5×l04Ω·cm.掺NH3时,X射线衍射峰半峰全宽0.50°,样品为弱p型,电阻率为102Ω·cm,载流子浓度为1.69×1016 cm-3.同时我们还观察到弱p型材料很容易退化成n型高阻材料.  相似文献
6.
蓝宝石R面上ZnO薄膜的NH3掺杂研究   总被引:3,自引:1,他引:2  
以NH3为掺杂源,利用金属有机化学气相沉积(MOCVD)系统在蓝宝石R面上生长出掺氮ZnO薄膜.通过XRD,SEM测量优化了其生长参数,在610℃和在80sccm的NH3流量下生长出了〈11 20〉单一取向的ZnO薄膜.经Hall电阻率测量,得知该薄膜呈现弱p型或高电阻率,并对其光电子能谱进行了研究.  相似文献
7.
Cu掺杂ZnO纳米材料的制备及表征   总被引:1,自引:0,他引:1  
利用CuO作为前驱体对ZnO进行了Cu掺杂研究,分别在不同温度下获得了ZnO纳米带及有纳米带构成的微米花状结构,对其生长机理进行了分析。并且以Cu片为衬底获得了ZnO的纳米梳以及有纳米梳构成的多层结构ZnO。XRD表明产物中只有ZnO单质相的存在,EDS证明产物中存在Cu元素。ZnO室温下的PL谱表明其UV与深能级发射强度比随Cu掺杂量的增加而变大,说明Cu的掺杂能够降低ZnO的缺陷峰强度。  相似文献
8.
电沉积法制备ZnO纳米柱及其机制研究   总被引:1,自引:1,他引:0  
采用阴极还原方法,以Zn(NO3)2水溶液为电解液制备ZnO纳米柱。分析了不同沉积电位和不同沉积时间的缓冲层对ZnO纳米柱的密度、形貌及取向的影响。通过分析缓冲层在不同沉积时间下的电流密度变化,研究了缓冲层对ZnO纳米柱密度影响的机理。利用扫描电子显微镜(SEM)和X射线衍射(XRD)分析了样品的表面形貌及结构。研究结果表明,缓冲层能够增加ZnO纳米柱的密度及c轴的取向性,当缓冲层的沉积时间为60 s时,可以得到密度最大、取向最好的ZnO纳米柱。  相似文献
9.
ZnO films were deposited by low-pressure metal organic chemical vapour deposition on epi-GaN/Al203 films and c-Al203 substrates. The structure and optical properties of the ZnO/GaN/Al203 and ZnO/Al203 films have been investigated to determine the differences between the two substrates. ZnO films on GaN/Al203 show very strong emission features associated with exciton transitions, just as ZnO films on Al2O3, while the crystalline structural qualities for ZnO films on GaN/Al2O3 are much better than those for ZnO films directly grown on Al203 substrates. Zn and O elements in the deposited ZnO/GaN/Al2O3 and ZnO/Al2O3 films are investigated and compared by x-ray photoelectron spectroscopy. According to the statistical results, the Zn/O ratio changes from Zn-rich for ZnO/Al2O3 films to O-rich for ZnO/GaN/Al2O3 films.  相似文献
10.
ZnO thin films have been grown on C-plane sapphire substrates by plasma-enhanced metal-organic chemical vapour deposition.The samples are then annealed at a higher temperature.The resistivity,concentration of electron,mobility and optically pumped threshold of both as-grown and annealed films are investigated.Furthermore,their structural and optical properties are also examined with x-ray diffraction,emission spectra and optical transmission spectra.The results indicate that the quality of ZnO thin films can be improved by annealing.  相似文献
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